Alimentación eléctrica DC/DC EBL

monofásicacon protección contra cortocircuitoscon protección contra sobrecargas

APLICACIÓN TÍPICA Microóptica,Litografía de semiconductores,Máquina de exposición de semiconductores,Máscara La fuente de alimentación de alto voltaje EBL de Wisman está diseñada para aplicaciones de haz de electrones de precisión, como la nanolitografía de semiconductores, la microóptica y el trabajo de máscara de desarrollo. Tiene ultra-bajo rizado y excelentes especificaciones de estabilidad, que es muy adecuado para la aplicación que tiene muy estricta exigente. Proporciona un rango seleccionable de corriente de salida baja y corriente de salida alta. La parte de alto voltaje del encapsulado sólido elimina cualquier problema de mantenimiento del usuario a la vez que aísla los componentes de las variables ambientales. El dispositivo está totalmente protegido contra sobrecargas, arcos y cortocircuitos. Proporciona funciones de programación y supervisión por control remoto. Permite la medición pasiva precisa de la salida de alta tensión. Comunicación digital opcional USB2.0, puerto de red, RS-232, RS485, personalizable según los requisitos del usuario. ESPECIFICACIONES Regulación de tensión: ±0,001% de la tensión nominal dentro del rango de tensión de entrada especificado Regulación de carga: ≤20V, cambios de corriente de 25μA a 60μA y de 60μA a 25μA ondulación: Valor pico a pico≤70mV Microdescarga de alta tensión: Menos de 200mV estabilidad: Tras 6 horas de precalentamiento, 0,001% cada 8 horas, la temperatura es de 20℃±0,2℃ Coeficiente de temperatura:25ppm por grado Celsius en el rango de 10°C a 40°C Entorno: Temperatura de funcionamiento: 0 a 40 grados Celsius Temperatura de almacenamiento: -40 a 85 grados Celsius Humedad: 10 a 90% HR, sin condensación Refrigeración: Refrigeración por convección Panel frontal: Interruptor de encendido/apagado Interruptor HV ON / OFF Indicador HV ON/OFF