Máquina de deposición PVD RTES1600
por pulverización catódica con magnetrónpor evaporación termicade película fina

máquina de deposición PVD
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Características

Método
PVD
Tecnología
por pulverización catódica con magnetrón, por evaporación termica
Tipo de deposición
de película fina, de película metalizada
Otras características
de vacío
Aplicaciones
para la industria de la microelectrónica

Descripción

Electro interferencia magnética que protege Metalizer, EMI que protege el equipo de la capa, máquina de capa conductora de la película de PVD EMI: La capa de interferencia electromágnetica se diseña especialmente para que los dispositivos eléctricos y electrónicos eviten de interferencia de electromágnetico. Su alta conductividad y alta interferencia del magnetc que protegen propiedades son ampliamente utilizadas en dispositivos de la telecomunicación, ordenadores, productos electrónicos de consumo, dispositivos del aparato electrodoméstico, aeroespaciales y militares El tratamiento superficial shileding de la EMI se ha aplicado con la industria del teléfono celular por años. Nuestros clientes son: Sumgsung, Iphone, Lenovo, teléfonos de Huawei fabrica. Electro interferencia magnética que protege las características de Metalizer 1) Conveniente para los plásticos, cerámica, vidrio y metal, emerge la deposición, 2) la plantilla y el estante del dúo diseñaron la estructura, la alta productividad 3) alta velocidad de depósito, 4) Buena uniformidad y control de grueso de capa exacto 5) Adherencia excelente

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