Espectrómetro de fotoelectrones emitidos por rayos X AXIS Supra+

de laboratoriopara la industria de los semiconductorespara espectroscopia

Resumen
El AXIS Supra+ es un espectrómetro de fotoelectrones por rayos X (XPS) con capacidad de imagen que proporciona información cuantitativa elemental y del estado químico en los ~10 nm superiores de la superficie de un material. También comercializado como Kratos Ultra 2 en Japón, el AXIS Supra+ combina capacidades espectroscópicas e imagen paralelo con un alto nivel de automatización para análisis de superficie en investigación y producción sobre metales, semiconductores e aislantes.

Características clave

• Sensibilidad: Excelente sensibilidad en modos de espectroscopía e imagen XPS para análisis de superficie y trazas.
• Usabilidad: El software ESCApe integra adquisición, procesamiento y automatización para flujos de trabajo eficientes.
• Imagen XPS paralela: Imagen rápida con alta resolución espacial para mapear la distribución lateral de elementos y estados químicos.
• Resolución: Alta resolución espectroscópica y de imagen adecuada para estudios detallados de química superficial.
• Automatización: Amplia automatización de funciones del espectrómetro para aumentar el rendimiento y la repetibilidad.
• Técnicas adicionales: Plataforma modular configurable con opciones complementarias de análisis y preparación de superficies sin degradar el rendimiento XPS.

Aplicaciones

• Análisis de materiales para baterías y almacenamiento de energía.
• Estudios relacionados con HAXPES (espectroscopía fotoelectrónica por rayos X duros).
• Caracterización de recubrimientos y películas finas.
• Perfilado de profundidad UPS‑XPS de películas OLED y otras capas finas mediante sputtering con racimos de argón.
• Cuantificación de la composición de capas en semiconductores compuestos y materiales multicapa.

Documentos disponibles (notas de aplicación seleccionadas)

• Perfil de profundidad combinado UPS‑XPS con racimos de argón de película fina OLED (nota de aplicación).
• Cuantificación de la composición de capas en semiconductores compuestos (nota de aplicación).
• Eliminación de la superposición de líneas núcleo/pico Auger usando diferentes energías de fotones (nota de aplicación).

Especificaciones técnicas

• Marca: Shimadzu
• Modelo: AXIS Supra+
• También conocido como: Kratos Ultra 2 (Japón)
• Tipo: Espectrómetro XPS de imagen
• Profundidad de análisis: aproximadamente ~10 nm en superficie
• Técnicas: XPS en modos espectroscópico e imagen paralelo; admite perfilado UPS‑XPS con sputtering por racimos de argón
• Imagen: Imagen XPS paralela de alta resolución espacial para mapeo químico lateral
• Sensibilidad y resolución: Diseñado para excelente sensibilidad y alta resolución espectroscópica y de imagen
• Software: ESCApe para adquisición integrada, procesamiento y control de automatización
• Compatibilidad de muestras: Metales, semiconductores, aislantes y diversos films/revestimientos finos
• Modularidad: Configurable con opciones adicionales de análisis y preparación de superficies sin comprometer el rendimiento XPS