Espectrómetro de fotoelectrones emitidos por rayos X XPS
de laboratoriopara el tratamiento de superficiepara espectroscopia

Espectrómetro de fotoelectrones emitidos por rayos X - XPS - Shimadzu France - de laboratorio / para el tratamiento de superficie / para espectroscopia
Espectrómetro de fotoelectrones emitidos por rayos X - XPS - Shimadzu France - de laboratorio / para el tratamiento de superficie / para espectroscopia
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Características

Tipo
de fotoelectrones emitidos por rayos X
Sector
de laboratorio, para análisis elementales, para espectroscopia, para investigación y desarrollo, de producción, para el tratamiento de superficie
Otras características
de alta resolución, de alta sensibilidad, automatizado

Descripción

Descripción general
La espectroscopía de fotoelectrones por rayos X (XPS), también conocida como ESCA, es una técnica consolidada de análisis de superficies para la caracterización de materiales. XPS proporciona información cuantitativa sobre elementos y estados químicos en los aproximadamente 10 nm superficiales de un material. El espectrómetro de fotoelectrones Kratos AXIS Nova puede recolectar espectros e imágenes XPS de materiales estables en las condiciones de ultraalto vacío requeridas por la técnica.

Rendimiento
Diseñado para un uso eficiente en laboratorio y producción, el AXIS Nova incorpora carga automática de muestras, cámaras ortogonales para un posicionamiento rápido y software de adquisición intuitivo. La platina de muestra de 110 mm de diámetro permite el manejo de muestras de gran tamaño y un alto rendimiento sin comprometer la sensibilidad espectroscópica, la resolución energética ni la resolución espacial de imagen.

Características
  • Sensitivity — Recolección eficiente de fotoelectrones para alta sensibilidad en modos de espectroscopía e imagen XPS.
  • Resolution — Excelente resolución energética para medir con precisión pequeños desplazamientos químicos.
  • Simplicity — Utiliza el software ESCApe para adquisición, procesamiento e informes, garantizando flujos de trabajo coherentes entre los equipos Kratos.
  • Parallel XPS imaging — Permite mapear la distribución elemental y química en la superficie.
  • Automation — Manejo automatizado de muestras y flujos de trabajo predefinidos para aumentar el rendimiento y la repetibilidad.
  • Additional capabilities — Sistema ampliable: opción de lámpara UV He‑discharge para UPS (banda de valencia y trabajo de función) y módulos analíticos adicionales.


Aplicaciones (seleccionadas)
  • Recubrimientos y películas delgadas
  • Polímeros y tratamientos superficiales
  • Perfilado por sputtering con racimos de gas Arn+ de polímeros plasma reticulados
  • Análisis de stents poliméricos recubiertos con fármacos
  • Sistemas combinatorios de películas delgadas — análisis por matriz


Especificaciones técnicas
  • Técnica: espectroscopía de fotoelectrones por rayos X (XPS) / ESCA
  • Profundidad de análisis: información desde los ~10 nm superiores de la superficie
  • Diámetro de la platina: 110 mm (manejo de muestras grandes)
  • Manejo de muestras: carga automática de muestras
  • Posicionamiento: cámaras ortogonales para un alineamiento sencillo
  • Imágenes: imagen XPS paralela con alta resolución espacial
  • Sensibilidad y resolución: alta sensibilidad y excelente resolución energética
  • Software: ESCApe para adquisición, procesamiento e informes
  • Opciones: lámpara UV He‑discharge para UPS (banda de valencia y trabajo de función)
* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.