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Máquina de deposición MOCVD TurboDisc K475i As/P
de película fina

máquina de deposición MOCVD
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Características

Método
MOCVD
Tipo de deposición
de película fina

Descripción

El sistema MOCVD de mayor productividad de la industria con el mejor rendimiento de su clase El nuevo sistema TurboDisc K475i As/P MOCVD de Veeco es el mejor reactor de la industria para la producción de LEDs rojos, naranjas y amarillos (R/O/Y), así como células solares multiunión III-V, diodos láser y transistores. El sistema K475i presenta un nuevo diseño de reactor que incorpora la tecnología Uniform FlowFlange™ de Veeco, que produce películas con una uniformidad muy alta y una mejor repetibilidad entre obleas y entre obleas con la menor generación de partículas del sector. El diseño simple de la tecnología Uniform FlowFlange proporciona facilidad de ajuste para una rápida optimización del proceso y un rápido tiempo de recuperación de la herramienta después del mantenimiento para obtener la máxima productividad en aplicaciones tales como iluminación, energía solar, diodos láser, transistores pseudomórficos de alta movilidad de electrones (pHEMT) y transistores bipolares de heterojunción (HBT). El nuevo diseño de la tecnología Uniform FlowFlange permite la mejor uniformidad en su clase y una repetibilidad del proceso capaz de generar mayores rendimientos El diseño robusto del reactor proporciona facilidad de uso y una recuperación más rápida después del mantenimiento para un tiempo de actividad máximo La más alta productividad de la industria gracias a la automatización completa La plataforma de producción probada proporciona el menor coste de propiedad

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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.