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Máquina de deposición MOCVD TurboDisc EPIK 868
por pulverización catódicade película finacon cátodos rotatorios

máquina de deposición MOCVD
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Características

Método
MOCVD
Tecnología
por pulverización catódica
Tipo de deposición
de película fina
Otras características
con cátodos rotatorios

Descripción

Rendimiento de vanguardia con la máxima eficiencia de capital y ahorro de espacio El EPIK® 868 de Veeco es el sistema MOCVD de mayor rendimiento del sector de los LED que permite una uniformidad y repetibilidad superiores con una baja defectividad. Disponible en configuraciones de cuatro reactores, EPIK 868 cuenta con tecnologías de vanguardia, como las tecnologías IsoFlange™ y TruHeat™ patentadas, que proporcionan un flujo laminar y un perfil de temperatura uniforme en todo el soporte de la oblea. Estas innovaciones tecnológicas impulsan los mayores rendimientos necesarios para los mini y micro LED. La tecnología TurboDisc®, inherente a EPIK 868, permite la máxima disponibilidad y tiempo de funcionamiento del sistema. Diseñado para la producción en masa, el soporte de alta capacidad del EPIK 868 admite múltiples tamaños de oblea de 4" o 6" para lograr el menor coste de propiedad. Los clientes pueden transferir fácilmente los procesos de los sistemas TurboDisc existentes a la nueva plataforma MOCVD EPIK 868 para iniciar rápidamente la producción de mini y micro LED de alta calidad. Excelente uniformidad con baja defectividad Arquitectura de cluster compacta Arquitectura de alto rendimiento para una producción máxima

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