Placa de cerámica

de alúminade óxido de aluminio

Descripción del producto
Esta placa rectangular de cerámica porosa de alúmina (Al2O3) está diseñada para adsorción por vacío de precisión y aplicaciones de rodamiento de aire (flotación por aire) en entornos de fabricación de semiconductores y alta tecnología. Su estructura porosa uniforme asegura una fuerza de sujeción por vacío constante y una distribución homogénea del flujo de aire, permitiendo el manejo sin contacto y sin daños de obleas, paneles y sustratos finos. La placa es adecuada para líneas de producción de alta limpieza y alta precisión.

Especificaciones del producto
Fórmula: Al2O3
Forma: Placa
Material: Cerámica porosa de alúmina
Número CAS: 1344-28-1
Producto: Placa cerámica porosa

Especificaciones / Tolerancias
Longitud: 400 mm ±0,1 mm
Ancho: 300 mm ±0,1 mm
Espesor: 4 mm ±0,1 mm

Aplicaciones típicas

• Sistemas de vacuum chuck para semiconductores (vacuum chuck para rectificado de obleas, corte de obleas, impresión)
• Limpieza y mantenimiento de vacuum chucks
• Vacuum chuck para transferencia y manipulación de obleas/paneles
• Plataformas de rodamiento de aire y flotación por aire de precisión
• Fabricación de paneles LCD y OLED
• Procesamiento microelectrónico de semiconductores
• Manipulación de vidrio y paneles para teléfonos móviles
• Procesamiento de películas finas y recubrimientos
• Plataformas de procesamiento láser
• Sistemas de impresión y recubrimiento
• Industria fotovoltaica y fabricación de células solares

Características clave

• Estructura porosa uniforme y estable para rendimiento predecible
• Adsorción por vacío fiable adecuada para manipulación de obleas
• Distribución uniforme del flujo de aire para uso en rodamiento de aire/flotación
• Permite manejo sin contacto para minimizar daños
• Alta precisión dimensional y tolerancias estrechas
• Diseñada para entornos de fabricación en sala blanca
• Formato rectangular grande para acomodar obleas o paneles de mayor tamaño

Propiedades físicas
Densidad: 2,3–2,5 g/cm³

Propiedades mecánicas
Dureza (HRA): ≥ 50,00

Características técnicas

• Fórmula química: Al2O3
• Dimensión estándar: 400 × 300 × 4 mm (tolerancia ±0,1 mm)
• Tamaño de poro (variante ejemplo): 30 µm
• Color (variante ejemplo): Marrón claro
• Cantidad por paquete: 1 pc por unidad
• SKU (variación ejemplo): 69296-00001-1068
• Rango de densidad típico: 2,3–2,5 g/cm³
• Dureza: HRA ≥ 50
• Uso previsto: vacuum chuck para semiconductores, plataformas a rodamiento de aire/flotación, manipulación de obleas/paneles en entornos de alta limpieza