Resinas de polímeros Fujifilm

... Materiales para la obtención de imágenes positivas en seco y por inmersión, y para el desarrollo de tonos negativos (NTD) Amplia gama de sistemas de formación de imágenes de alta resolución para exposición a 193 nm, incluida la formación ...

... La serie GKR son sistemas fotorresistentes KrF de tono positivo que cubren una amplia gama de aplicaciones. - Materiales no PFOS/PFAS - Aplicación de alta relación de aspecto - Resistencia superior al grabado por plasma y a la implantación ...

... Amplia serie de fotorresistencias de sensibilidad media para aplicaciones críticas y no críticas que abarcan una resolución de menos de 0,30 µm a más de 1,0 µm en diversos sustratos con una amplia gama de espesores de resistencia. Resumen ...

... Múltiples series de sistemas de resistencia a base de poliisopreno de tono negativo aplicables a una amplia gama de necesidades de proyección, imagen de proximidad y contacto y grabado húmedo en diversos sustratos Resumen de productos - ...

... Series de resistencias de tono positivo y negativo para una amplia gama de aplicaciones de imagen por haz electrónico - Resolución superior - Amplias ventanas de proceso Resumen de productos Serie FEP - Los productos de la serie FEP ...

... Los productos PBO químicamente amplificados de Fujifilm ofrecen una alta fiabilidad con un bajo coste de propiedad. - Materiales de alto contraste y acción positiva basados en la química PBO - Fotografiables mediante herramientas de exposición ...

... Las poliimidas desarrollables con disolvente de Fujifilm son una familia de precursores de poliimida fotoimaginables, que cubren tanto las temperaturas de curado altas como las bajas para aplicaciones de capa de distribución (RDL) y de ...

... Fujifilm dispone de varias formulaciones de poliimida no fotosensible para una amplia variedad de aplicaciones de semiconductores y afines. - Espesores de recubrimiento final desde 400 Angstroms hasta 25 micras - Opciones de curado a ...