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Resina para semiconductores ArFfotosensiblede inmersiónde alto rendimiento
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Características
- Aplicaciones
- para semiconductores
- Otras características
- fotosensible, de inmersión, de alto rendimiento
Descripción
Descripción general
Materiales para imagen positiva en proceso seco e inmersión, y para imagen en tono negativo (NTI). Diseñados para exposiciones a 193 nm de alta resolución con opciones para procesos en seco e inmersión.
Línea de productos
Características y beneficios
Especificaciones / Datos técnicos
Materiales para imagen positiva en proceso seco e inmersión, y para imagen en tono negativo (NTI). Diseñados para exposiciones a 193 nm de alta resolución con opciones para procesos en seco e inmersión.
Línea de productos
- GAR Series: Productos de la GAR Series adecuados para aplicaciones que requieren exposición en seco a 193 nm.
- FAiRS Series for PTI (positive tone imaging): Productos FAiRS orientados a exposición por inmersión a 193 nm con imagen en tono positivo.
- FAiRS Series for NTI (negative tone imaging): Productos FAiRS orientados a exposición por inmersión a 193 nm con imagen en tono negativo.
Características y beneficios
- Alto rendimiento
- Resolución superior
- Amplios márgenes de proceso
- Bajos niveles de defectos
- Control de perfiles verticales
Especificaciones / Datos técnicos
- Longitud de onda: 193 nm
- Modos de imagen: positivo en seco, inmersión (PTI), imagen en tono negativo (NTI)
- Series de productos: GAR Series (seco), FAiRS Series (PTI y NTI)
- Diseñados para imagen de alta resolución con amplios márgenes de proceso y bajos niveles de defectos
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