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Resina fotosensible ArF
para semiconductores

resina fotosensible
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Características

Aplicaciones
para semiconductores
Otras características
fotosensible

Descripción

Materiales para la obtención de imágenes positivas en seco y por inmersión, y para el desarrollo de tonos negativos (NTD) Amplia gama de sistemas de formación de imágenes de alta resolución para exposición a 193 nm, incluida la formación de imágenes positivas en seco y por inmersión y el desarrollo de tonos negativos (NTD) - Alto rendimiento - Resolución superior - Amplias ventanas de proceso - Bajos niveles de defectos - Perfiles verticales - Serie GAR Los productos de la serie GAR son adecuados para trabajar con una amplia gama de aplicaciones que requieren exposición en seco a 193 nm - Serie FAiRS para PTD Los productos de la serie FAiRS son adecuados para trabajar con una amplia gama de aplicaciones que requieren una exposición de inmersión de 193 nm y un desarrollo de tono positivo - Serie FAiRS para NTD Los productos de la serie FAiRS son adecuados para trabajar con una amplia gama de aplicaciones que requieren exposición por inmersión a 193 nm y desarrollo de tonos negativos

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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.