Máquina de deposición por pulverización catódica con magnetrón OPT-S 1500

vertical en líneapara aplicaciones automóviles

Resumen
OPT-S 1500 es un sistema de recubrimiento óptico por sputtering magnetrón con un área de recubrimiento efectiva de Φ940 × H1000 mm y una cámara de Φ1200 × H1650 mm. Integra grabado mediante fuente de iones y 8 fuentes de sputtering (opciones planares o cilíndricas) y está pensado para recubrimientos multicapa ópticos de alta uniformidad aplicables a lentes, paneles automotrices, pantallas, LiDAR y HUD. Los tipos de película admitidos incluyen filtros cut-off, banda ancha, filtros RGB, AR, hard AR, IR-AR, HR, AS/AF y recubrimientos ITO.

Ventajas clave

• 8 fuentes de sputtering con configuraciones planares o cilíndricas según el proceso
• Monitorización óptica en línea para seguimiento espectral en tiempo real y control del punto final de depósito
• Movimiento planetario vertical de las piezas (revolución y rotación) para una distribución uniforme del espesor en multilayer ópticos
• El proceso de sputtering proporciona capas densas y adherentes con bajas pérdidas por absorción y dispersión
• Control mediante pantalla táctil y PLC para operación por recetas
• Gestión del vacío mediante múltiples bombas moleculares (5 bombas moleculares)

Aplicaciones y tipos de película

• Aplicaciones: lentes ópticas, paneles automotrices, pantallas, módulos LiDAR, HUD
• Tipos de película: filtros cut-off, filtros banda-passante, filtros RGB, AR (antirreflectante), hard AR, IR-AR, HR (alta reflectancia), AS/AF (antimanchas/anti-huellas) y recubrimientos ITO

Diseño y características del equipo

• Sistema vertical integrado con puerta lateral y dos ventanas de observación para control del proceso
• Porta‑pieza cilíndrico planetario vertical con movimiento de revolución y rotación
• Especificación del porta‑pieza: Φ170 × 12 ejes (ajustable según requisitos)
• Tamaño de la cámara (Diámetro × Altura): Φ1200 × H1650 mm
• Área efectiva de recubrimiento (Diámetro × Altura): Φ940 × H1000 mm
• Temperatura de trabajo: ajustable desde temperatura ambiente hasta 300°C
• Vacío último: ~8 × 10⁻5 Pa (sin carga, en condiciones de sala limpia)
• Dimensiones (L × An × Al): 4.0 × 2.1 × 2.8 m

Especificaciones técnicas

• Modelo: OPT-S 1500
• Tecnología de recubrimiento: sputtering magnetrón
• Tecnología de grabado: grabado por fuente de iones
• Materiales de sustrato: vidrio, materiales cristalinos, polímeros, cerámicas y metales
• Estructura del equipo: sistema vertical integrado; puerta lateral; 2 ventanas de observación
• Tamaño de la cámara (Diámetro × Altura): Φ1200 × H1650 mm
• Área efectiva de recubrimiento (Diámetro × Altura): Φ940 × H1000 mm
• Especificación del porta‑pieza: Φ170 × 12 ejes; ajustable según requisitos
• Movimiento del porta‑pieza: sistema porta‑pieza cilíndrico planetario vertical (revolución y rotación)
• Fuentes de sputtering: 8 (opciones planares / cilíndricas)
• Temperatura de trabajo: temperatura ambiente a 300°C
• Vacío último: ~8 × 10⁻5 Pa (sin carga, en condiciones de sala limpia)
• Dimensiones del equipo (L × An × Al): 4.0 × 2.1 × 2.8 m
• Control: pantalla táctil y control PLC
• Sistema de vacío: múltiples bombas moleculares (5 bombas moleculares)