ResumenOPT-S 800 es un sistema de recubrimiento óptico por sputtering magnetrón con un área de recubrimiento efectiva de Φ650 × H450 mm y una cámara de Φ1150 × H980 mm. El equipo integra grabado por fuente de iones y cuatro fuentes de sputtering, con opciones planares o cilíndricas. La serie OPT-S está diseñada para depósitos multicapa uniformes en lentes ópticas, paneles automotrices, pantallas, módulos LiDAR y HUDs.
Aplicaciones- Lentes ópticas
- Paneles automotrices (exterior/interior)
- Pantallas y paneles táctiles
- Optica para LiDAR y sensores
- Head-up displays (HUD)
Tipos de película- Filtros de corte
- Filtros pasa-banda y filtros RGB
- AR (antirreflectante)
- Hard AR
- IR-AR
- HR (alta reflectividad)
- AS/AF (antimanchas / anti-huellas)
- Recubrimientos ITO (conductores transparentes)
Beneficios clave- Cuatro fuentes de sputtering con opciones planares o cilíndricas para configuración de proceso flexible
- Monitorización óptica en línea para retroalimentación espectral en tiempo real y control del punto final de depósito multicapa
- Movimiento planetario (revolución y rotación) del sustrato para asegurar una distribución uniforme del espesor de película
- El proceso de sputtering produce películas ópticas densas y adherentes con bajas pérdidas por absorción y dispersión
Características- Área de recubrimiento efectiva: Φ650 × H450 mm
- Tamaño de la cámara: Φ1150 × H980 mm
- Portapiezas: Φ135 × 10 ejes (ajustable); porta piezas cilíndrico planetario vertical
- Pantalla táctil e interfaz PLC
- Dos bombas moleculares (componentes del sistema de vacío)
Parámetros del producto (tabla)Modelo: OPT-S 800
Tecnología de recubrimiento: Sputtering magnetrón
Tecnología de grabado: Grabado por fuente de iones
Materiales de sustrato: Vidrio, materiales cristalinos, polímeros, cerámicas, metales
Estructura del equipo: Sistema vertical integrado; puerta lateral; 2 ventanas de visualización
Tamaño de la cámara (Diámetro × Altura): Φ1150 × H980 mm
Área de recubrimiento efectiva (Diámetro × Altura): Φ650 × H450 mm
Especificación del portapiezas: Φ135 × 10 ejes; ajustable
Fuentes de sputtering: 4; opciones planares / cilíndricas
Temperatura de trabajo: Ambiente a 300°C (ajustable)
Vacío último: 8 × 10⁻⁵ Pa (sin carga, condición de sala limpia)
Gases de proceso: Argón, nitrógeno, oxígeno, acetileno
Dimensiones del equipo (L × W × H): L3.8 × W1.8 × H2.3 m
Especificaciones técnicas- Modelo: OPT-S 800
- Método de recubrimiento: Sputtering magnetrón
- Método de grabado: Grabado por fuente de iones
- Cámara: Φ1150 × H980 mm
- Área de recubrimiento efectiva: Φ650 × H450 mm
- Portapiezas: Φ135 × 10 ejes, planetario vertical
- Fuentes de sputtering: 4 (opciones planares o cilíndricas)
- Rango de temperatura: RT a 300°C
- Vacío último: 8 × 10⁻⁵ Pa (sin carga, condición sala limpia)
- Gases de proceso: Ar, N2, O2, C2H2
- Dimensiones: L3.8 × W1.8 × H2.3 m