Máquina de deposición por pulverización catódica con magnetrón VTC-600-2HD DC/RF

de metalización

El VTC-600-2HD es un sistema de sputtering por magnetrón que dispone de dos fuentes de cátodos: 1) fuente de CC para el recubrimiento de material metálico en un cabezal y 2) fuente de RF para el recubrimiento de material no metálico en el otro cabezal. Está equipado con un rastreador de espesor de película que permite al usuario supervisar fácilmente el progreso del recubrimiento y registrar los datos. Este modelo está sofisticadamente diseñado para el recubrimiento de capas de película simples o múltiples de una amplia gama de materiales de sustrato (ferroeléctrico, condutivo, aleación, semiconductor, cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, duro, PTFE y etc). Su compacidad y facilidad de manejo lo convierten en un sistema de recubrimiento ideal para su uso en laboratorios de I+D. Potencia de entrada - 220VAC 50/60Hz, monofásica - 2000W (bomba incluida) Potencia de la fuente - Dos fuentes de potencia para sputtering integradas en una caja de control - Fuente de CC: 500 W para el recubrimiento de materiales metálicos - Fuente de RF: 600 W con ajuste automático para el recubrimiento de materiales no metálicos - Fuente RF Compact 300 disponible con coste adicional Cabezal de sputtering de magnetrón - Se incluyen dos cabezales de pulverización catódica por magnetrón de 2" con camisas de refrigeración por agua (haga clic en la imagen de la izquierda para ver las especificaciones detalladas) - Uno está conectado a la fuente de alimentación de RF para materiales no conductores - El otro se conecta a una fuente de corriente continua para el recubrimiento de materiales metálicos - Requisitos de tamaño del blanco: 2" de diámetro - Espesor máximo de 1/16" para cátodos metálicos - 1/4" de espesor máximo para cátodos no conductores - Se incluye un cátodo de acero inoxidable y otro de cerámica Al2O3 para pruebas de demostración