Horno de fusión TA-200
de crecimiento de cristalde cámaraeléctrico

horno de fusión
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Características

Función
de fusión, de crecimiento de cristal
Configuración
de cámara
Fuente de calor
eléctrico
Temperatura máxima

Mín.: 0 °C
(32 °F)

Máx.: 3.500 °C
(6.332 °F)

Descripción

Nuestro horno de menor costo para cultivar cristales del tamaño de un laboratorio con el método Czochralski es nuestro horno de fusión en arco TA-200 con la opción de crecimiento de cristales. Esta opción añade todos los componentes utilizados para cultivar cristales individuales de materiales semiconductores (Silicio, Germanio y Arseniuro de Galio), metales, sales y piedras preciosas sintéticas. Este horno utiliza tres arcos eléctricos capaces de fundir materiales por encima de los 3500°C. Una semilla de cristal adherida a la varilla de siembra desciende al crisol 2″ (50 mm) que contiene el fundido. Los controles están programados para tirar del cristal en crecimiento. La velocidad de tracción es ajustable y controla con precisión hasta 0,001 mm/min. Se proporciona un motor separado para girar la barra de siembra de 3/8", la altura máxima de tiro es 7″ (176 mm). El crisol inferior también está disponible con motor rotativo.

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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.