- Productos
- Catálogos
- News & Trends
- Ferias
Máquina de deposición por pulverización catódica con magnetrón UNIvappor evaporación termicaasistida mediante haz de ionesde película fina
Añadir a mis favoritos
Añadir al comparador
Características
- Tecnología
- por pulverización catódica con magnetrón, por evaporación termica, asistida mediante haz de iones
- Tipo de deposición
- de película fina
- Otras características
- de vacío
- Aplicaciones
- para la industria de la microelectrónica, para aplicaciones fotovoltaicas
Descripción
- Sistema autónomo
- Solución compacta y rentable
- Diseño de fácil configuración
- Posibilidad de codistribución
- Uniformidad de hasta +/-3 % (con un diseño geométrico específico de hasta +/1 %)
- Dos tamaños estándar: UNIvap 4S y UNIvap 5S
- Posibilidad de hasta 8 fuentes de deposición
- Tamaño del sustrato hasta 100x100 mm o diam. 100 mm (4") para UNIvap 4S
- Tamaño del sustrato hasta 150x150 mm o diam. 150 mm (6") para UNIvap 5S
- OLEDs/Electrónica orgánica
- OPVs
---
Búsquedas asociadas
- Máquina para estucado
- Máquina de deposición de vacío
- Máquina de deposición PVD
- Máquina de deposición de película fina
- Máquina de deposición por evaporación termica
- Máquina de deposición para la industria de la microelectrónica
- Máquina de deposición asistida mediante haz de iones
- Máquina de deposición para aplicaciones fotovoltaicas
- Máquina para estucado de alta precisión
- Máquina para estucado con boquilla de ranura ancha
* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.