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Máquina de deposición por pulverización catódica con magnetrón PEROvap
por evaporación termicaasistida mediante haz de ionesde película fina

máquina de deposición por pulverización catódica con magnetrón
máquina de deposición por pulverización catódica con magnetrón
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Características

Tecnología
por pulverización catódica con magnetrón, por evaporación termica, asistida mediante haz de iones
Tipo de deposición
de película fina
Otras características
de vacío
Aplicaciones
para la industria de la microelectrónica, para aplicaciones fotovoltaicas

Descripción

Especialmente diseñado para Perovskitas - Herramienta ideal para una I+D eficaz - Diseño especial del sistema - Fuente especial de precursores - Alta estabilidad a baja temperatura - Proceso de deposición estable y definido - Condiciones de alto vacío - Baja interferencia - Alta repetibilidad - Compatibilidad de materiales para una vida útil muy larga - Patente pendiente

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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.