Sistema de metrología para semiconductores Atlas V

La serie Atlas de película fina y OCD es la herramienta de metrología para la fabricación de dispositivos FinFET, gate-all-around (GAA) FET, 3D NAND y DRAM avanzados de última generación. El nuevo sistema de metrología Atlas V está diseñado para medir varios pasos clave que incluyen características enterradas, no visibles por CD-SEM y otras técnicas. Gracias a las notables mejoras introducidas en los sistemas ópticos, los subsistemas mecánicos y los algoritmos de software, el sistema Atlas V puede medir con precisión las variaciones más sutiles de los parámetros de los dispositivos y revelar los puntos débiles del proceso para que los ingenieros puedan mejorar la solidez del mismo en la fábrica. La sensibilidad de la metrología del Atlas V permite medir estas dimensiones críticas con gran precisión y sensibilidad, ampliando la capacidad de las soluciones ópticas para generaciones de dispositivos y eliminando la necesidad de otras técnicas de control de procesos más lentas. La tecnología Atlas V permite el rendimiento necesario para el desarrollo de GAA/3D NAND/DRAM de los clientes y es más de 100 veces más rápida que las soluciones de rayos X para estas estructuras. Selectos clientes de Onto Innovation han validado esta nueva tecnología OCD y han comprobado la velocidad y resolución que antes se creía que estaba más allá de los límites de la tecnología óptica.