Máquina de deposición solar LPCVD

Se utiliza principalmente para la deposición de la capa de Poli-Si y el dopaje in situ en la producción de células solares c-si. Pasos de procesamiento Eliminación de daños por sierra→Limpieza previa→Monotexturizado→Limpieza posterior→Limpieza con ácido→Secado con agua caliente→Secado (sólo como referencia) Características - Deposición química de vapor a baja presión. - Tecnología de sellado múltiple de tubos refrigerados por agua. - Estructura de tubo de cuarzo de doble capa. - Entrada de aire seccional con regulación independiente. - Mecanismo de traslación de la puerta del horno. - Mecanismo de empuje de la barca del módulo integral de alta velocidad. - Control digital. - Control de más zonas de temperatura. - Control automático inteligente. - Protección de alarma por sobrecalentamiento, rotura de termopar y colisión de la barca.