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Máquina de deposición solar LP-42 series
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Características
- Aplicaciones
- solar
Descripción
· Características del proceso de baja presión y pared caliente, con una mayor uniformidad de la película y una buena compacidad.
· Proceso LPCVD: los sustratos con alta densidad de carga apenas afectan a la velocidad de recubrimiento, con una gran capacidad de carga en un solo tubo.
· Más zonas de temperatura para garantizar de forma fiable la uniformidad entre las obleas.
· Entrada de aire segmentada y ajustable de forma independiente para compensar el efecto de disminución del flujo de aire.
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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.