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Máquina de deposición PE-CVD PECVD
de capas finas de silicio

Máquina de deposición PE-CVD - PECVD - Shenzhen S.C New Energy Technology Corporation - de capas finas de silicio
Máquina de deposición PE-CVD - PECVD - Shenzhen S.C New Energy Technology Corporation - de capas finas de silicio
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Características

Método
PE-CVD
Tipo de deposición
de capas finas de silicio

Descripción

·La capa de óxido de túnel, la capa i-poly y la capa D-poly pueden depositarse en el mismo tubo del horno, lo que contribuye a reducir los pasos del proceso, mejorar el rendimiento y reducir eficazmente la tasa de roturas; ·Al no producirse efectos de pared caliente, el tubo de cuarzo tiene una larga vida útil; ·Ligera deposición envolvente, fácil de eliminar; ·Dopaje preciso; permite introducir otros elementos dopantes que mejoran la eficiencia, lo que resulta adecuado para la ampliación del proceso y ofrece un amplio margen para mejorar la eficiencia; ·Tecnología anticonducción patentada.

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Traducción automática  (ver el original en inglés)

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