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Máquina de deposición CVD
de película finade alta precisiónen línea

Máquina de deposición CVD - Socrate Industrie - de película fina / de alta precisión / en línea
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Características

Método
CVD
Tipo de deposición
de película fina
Otras características
de alta precisión, en línea, robotizada
Aplicaciones
para la industria de la microelectrónica

Descripción

Presentación
Sistema de depósito de óxidos por CBVD para el procesamiento de obleas de 2 a 18 pulgadas. Diseñado para realizar el crecimiento controlado de capas oxidadas con monitorización en tiempo real y funcionamiento totalmente automatizado. Compatible con obleas de hasta Ø450 mm.

Gama
Gama de equipos Sybilla.

Características principales
  • Tecnología CBVD desarrollada con nuestro socio 3D Oxides
  • Uniformidad de depósito en obleas de hasta Ø450 mm
  • Monitorización en tiempo real para mantener las condiciones de crecimiento
  • Proceso totalmente automatizado
  • Diseñado para obleas de 2 a 18 pulgadas
  • Imágenes y visualización del producto disponibles (fotografías de la gama Sybilla)

Documentación
Documentación técnica disponible (archivo PDF específico para la máquina Oxides).

Características / especificaciones técnicas
  • Tecnología: CBVD (Chemical Beam Vapor Deposition)
  • Socio técnico: 3D Oxides
  • Rango de obleas compatibles: 2 a 18 pulgadas
  • Uniformidad objetivo: hasta Ø450 mm
  • Control: monitorización en tiempo real de los parámetros de crecimiento
  • Automatización: proceso totalmente automatizado
  • Gama: Sybilla
  • Año de referencia: 2026 (desarrollo de la gama)

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