Sistema de medición de dimensiones críticas Spector

ópticopara semiconductorde alta precisión

TZTEK proporciona sistemas de alta precisión y repetibilidad para la metrología de máscaras que se requieren durante la fabricación de las mismas. Las máscaras pueden ser GOG y PSM u otras. Para el requisito de IQC de máscara en Fab, TZTEK proporciona objetivos de larga distancia de trabajo para proteger la máscara con película. Para la medición de CD en la máscara, el sistema proporciona iluminación visible y UV tanto en modo reflejado como transmitido. La iluminación UV se puede utilizar para medir la anchura de la estructura hasta 300 nm, la repetibilidad (3sigma) se encuentra principalmente en el rango de varios nanómetros. características principales -Medición de dimensiones críticas, inspección de defectos y revisión de máscaras -Disponible para tamaños de máscara de hasta 14 pulgadas y formas de máscara personalizadas -Iluminación visible y UV disponible en modo transmitido y reflejado -SECS/GEM -Bajo coste de mantenimiento, estable y fiable