Resina para semiconductores i-Line

fotosensible

Amplia serie de fotorresistencias de sensibilidad media para aplicaciones críticas y no críticas que abarcan una resolución de menos de 0,30 µm a más de 1,0 µm en diversos sustratos con una amplia gama de grosores de resistencia. Gama de productos Resinas i-Line avanzadas para sustratos no reflectantes Familias de resistivos diseñadas para el estampado crítico exigente de CD (350 nm CD) en sustratos reflectantes: Serie OiR 674 Serie GiR 1102 Resinas i-Line de alta resolución polivalentes Serie de resistivos que ofrece las opciones de velocidad fotográfica más rápidas para un alto rendimiento, una alta resolución (>500 nm CD) y un patronaje robusto: Serie GiR 2700 Serie OiR 305 Serie OiR 906 Serie OiR 907 Resistencias multiuso Cross-over g- e i-Line Serie de resistencias que ofrece un patrón robusto para g-line, i-line y banda ancha (>800 nm CD): Serie HiPR 6500 Serie HPR 510 Resinas tintadas para sustratos altamente reflectantes Serie de resistivos que ofrecen altas densidades ópticas sin blanqueamiento para el control de CD y entalladuras en sustratos altamente reflectantes: OiR 906HD OiR 305HC HiPR 6500GH HiPR 6500HC resistencias i-Line para aplicaciones más gruesas Serie de resistivos para necesidades de patronaje de películas más gruesas con espesores de 3 a 13 µm: FHi-560EP GiR 3114 OiR 305 OiR 908