Descripción generalSerie de fotorresistes sensibles al mid-UV formulada para el patronado en una amplia gama de resoluciones (desde <0,30 µm hasta >1,0 µm) y espesores de película en substratos no reflectantes, reflectantes y de alta reflectividad.
Línea de productos- Resistes i-Line para substratos no reflectantes
Familias de resist diseñadas para impresión de CD críticos en substratos no reflectantes:- OiR 620 series
- OiR 674 series
- Resistes i-Line para substratos reflectantes
Series con opciones de fotosensibilidad rápidas para resoluciones avanzadas en substratos reflectantes:- OiR 674 series
- GiR 1102 series
- Resistes i-Line de alta resolución multiuso
Series que ofrecen las opciones de fotospeed más rápidas para alto rendimiento y patronado de alta resolución:- GiR 2700 series
- OiR 305 series
- OiR 906 series
- OiR 907 series
- Resistes crossover g- e i-Line y banda ancha
Resistes aptos para g-line, i-line y banda ancha (>800 nm CD):- HiPR 6500 series
- HPR 510 series
- Resistes teñidos para substratos de alta reflectividad
Formulaciones no blanqueantes que proporcionan alta densidad óptica para el control de CD y notching:- OiR 906HD
- OiR 305HC
- HiPR 6500GH
- HiPR 6500HC
- Resistes i-Line para aplicaciones de mayor espesor
Series diseñadas para patronado de películas gruesas (3–13 µm):- FHi-560EP
- GiR 3114
- OiR 305
- OiR 908
Características y beneficiosOpciones completas de resist mid-UV que cubren rangos críticos y no críticos de CD, compatibilidad con múltiples tipos de substratos y amplias ventanas de espesor de película, con opciones de compromisos entre fotospeed y resolución según la serie.
Especificaciones técnicas- Sensibilidad: mid-UV (i-line / g-line / broadband)
- Resolución objetivo: <0,30 µm a >1,0 µm según la serie
- Compatibilidad de substratos: no reflectante, reflectante y alta reflectividad
- Series representativas: OiR 620, OiR 674, GiR 1102, GiR 2700, OiR 305, OiR 906, OiR 907, HiPR 6500, HPR 510, OiR 906HD, OiR 305HC, HiPR 6500GH, HiPR 6500HC, FHi-560EP, GiR 3114, OiR 908
- Control de CD y notching para substratos altamente reflectantes (series teñidas)
- Rango de espesor de película para aplicaciones gruesas: 3 µm a 13 µm
- Opciones de fotospeed rápido y alta resolución (>500 nm CD) según la serie