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Resina para semiconductores i-Line
para la electrónicafotosensiblede alto rendimiento

Resina para semiconductores - i-Line - Fujifilm NDT Systems - para la electrónica / fotosensible / de alto rendimiento
Resina para semiconductores - i-Line - Fujifilm NDT Systems - para la electrónica / fotosensible / de alto rendimiento
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Características

Aplicaciones
para semiconductores, para la electrónica
Otras características
fotosensible, de alto rendimiento, de polimerización por UV, coloreada

Descripción

Descripción general
Serie de fotorresistes sensibles al mid-UV formulada para el patronado en una amplia gama de resoluciones (desde <0,30 µm hasta >1,0 µm) y espesores de película en substratos no reflectantes, reflectantes y de alta reflectividad.

Línea de productos
  • Resistes i-Line para substratos no reflectantes
    Familias de resist diseñadas para impresión de CD críticos en substratos no reflectantes:
    • OiR 620 series
    • OiR 674 series
  • Resistes i-Line para substratos reflectantes
    Series con opciones de fotosensibilidad rápidas para resoluciones avanzadas en substratos reflectantes:
    • OiR 674 series
    • GiR 1102 series
  • Resistes i-Line de alta resolución multiuso
    Series que ofrecen las opciones de fotospeed más rápidas para alto rendimiento y patronado de alta resolución:
    • GiR 2700 series
    • OiR 305 series
    • OiR 906 series
    • OiR 907 series
  • Resistes crossover g- e i-Line y banda ancha
    Resistes aptos para g-line, i-line y banda ancha (>800 nm CD):
    • HiPR 6500 series
    • HPR 510 series
  • Resistes teñidos para substratos de alta reflectividad
    Formulaciones no blanqueantes que proporcionan alta densidad óptica para el control de CD y notching:
    • OiR 906HD
    • OiR 305HC
    • HiPR 6500GH
    • HiPR 6500HC
  • Resistes i-Line para aplicaciones de mayor espesor
    Series diseñadas para patronado de películas gruesas (3–13 µm):
    • FHi-560EP
    • GiR 3114
    • OiR 305
    • OiR 908


Características y beneficios
Opciones completas de resist mid-UV que cubren rangos críticos y no críticos de CD, compatibilidad con múltiples tipos de substratos y amplias ventanas de espesor de película, con opciones de compromisos entre fotospeed y resolución según la serie.

Especificaciones técnicas
  • Sensibilidad: mid-UV (i-line / g-line / broadband)
  • Resolución objetivo: <0,30 µm a >1,0 µm según la serie
  • Compatibilidad de substratos: no reflectante, reflectante y alta reflectividad
  • Series representativas: OiR 620, OiR 674, GiR 1102, GiR 2700, OiR 305, OiR 906, OiR 907, HiPR 6500, HPR 510, OiR 906HD, OiR 305HC, HiPR 6500GH, HiPR 6500HC, FHi-560EP, GiR 3114, OiR 908
  • Control de CD y notching para substratos altamente reflectantes (series teñidas)
  • Rango de espesor de película para aplicaciones gruesas: 3 µm a 13 µm
  • Opciones de fotospeed rápido y alta resolución (>500 nm CD) según la serie

Ferias

Este distribuidor estará presente en las siguientes ferias

ELECTRONICA 2026
ELECTRONICA 2026

10-13 nov. 2026 Munich (Alemania) Hall B1 - Stand 516

  • Más información
    * Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.