HORIBA STEC, Co., Ltd. anunció el 14 de enero el lanzamiento del DZ-107 como último modelo de su serie de controladores de caudal másico ultrafinos.
Este producto aumenta el caudal a escala completa*1 aproximadamente siete veces más que los modelos anteriores y alcanza un caudal másico máximo de 20 SLM*2, el más alto de su clase*3, manteniendo una anchura ultrafina de 10 mm. La DZ-107 también aumenta la temperatura máxima de funcionamiento de 45 °C a 60 °C para admitir los gases utilizados en el proceso de fabricación de precisión de semiconductores de vanguardia.
Estas mejoras funcionales no sólo mantienen la eficacia de los modelos anteriores en los procesos de grabado, sino que también admiten aplicaciones de deposición química en fase vapor (CVD) y deposición de capas atómicas (ALD) que requieren un alto control del flujo.
A medida que los dispositivos semiconductores modernos superan los límites de la miniaturización y la integración, los requisitos de los controladores de caudal másico en procesos como el grabado y el moldeo son cada vez más sofisticados y complejos. Para satisfacer una amplia gama de necesidades, los fabricantes de equipos de fabricación de semiconductores se esfuerzan por equilibrar la necesidad de aumentar el número de controladores de flujo másico y, al mismo tiempo, miniaturizar los paneles de gas*4 que instalan estos dispositivos.
HORIBA STEC ha desarrollado el DZ-107 para mejorar por completo las capacidades del producto con el fin de afrontar este reto, manteniendo al mismo tiempo la anchura única de 10 mm del DZ-100 lanzado en 2020. Esto incluye el aumento del caudal a escala completa y el rango de temperatura de funcionamiento, además de la compatibilidad con EtherCAT®*5.
*1 Caudal máximo que el dispositivo está calibrado para medir y controlar con precisión
*2 Litros por minuto estándar (SLM) proporciona un valor numérico en litros que indica
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