Sistema de medición de luz UV Wafer

por radiación ultravioletapara oblea

El sistema de medición in situ de luz ultravioleta (UV) UV Wafer™ de 300 mm utiliza la tecnología de obleas con sensores inalámbricos para medir la dosificación y la intensidad de la luz UV en la superficie de la oblea dentro de las herramientas del proceso de deposición de películas. Permitiendo una optimización y monitorización del proceso previamente no disponible, el UV Wafer proporciona información temporal y espacial sobre la intensidad de la luz que llega a la superficie de la oblea desde la lámpara UV utilizada para recocido o curado de óxidos FCVD (fluidos) y películas dieléctricas de bajo k. La oblea UV también puede identificar la deriva inducida por la edad de la lámpara u otros cambios en la intensidad de la lámpara que dan lugar a propiedades no uniformes de la película. Al poner de relieve los problemas del sistema óptico dentro del subsistema de la lámpara UV, el UV Wafer ayuda a los ingenieros a impulsar mejoras en las herramientas de proceso que dan lugar a procesos de curado óptimos. Aplicaciones Desarrollo de procesos, Cualificación de procesos, Cualificación de herramientas de proceso, Supervisión de herramientas de proceso, Adaptación de herramientas de proceso Deposición de películas, curado UV, recocido UV Altura de la oblea con módulo sensor de 4 mm o 6 mm