ResumenLa Serie NEXIV VMF-K de Nikon es un sistema de medición por vídeo confocal que integra adquisición 2D de alta velocidad y medición de altura confocal (3D) en un único campo de visión. Está dirigido a procesos industriales de semiconductores y metrología de precisión, como inspección de probe cards, WLP, producción de sustratos y control de componentes miniaturizados.
Beneficios clave- Mayor rendimiento: aproximadamente 1,5× de mejora frente a modelos anteriores en mediciones combinadas 2D/altura.
- Captura simultánea 2D (campo brillante) y medición de altura confocal en un mismo flujo de trabajo, reduciendo tiempos de inspección.
- Fuente confocal Green LED de larga vida (~30.000 horas) que sustituye al xenón, mejorando estabilidad y mantenibilidad.
- Medición estable en muestras de alto contraste, altamente reflectantes y muy transparentes/finas.
- Soporte de mediciones de gran longitud (más allá de un campo de visión) y mediciones basadas en sistema de coordenadas.
Aspectos destacados del producto- Óptica Bright Field integrada con zoom motorizado de 5 pasos y medición confocal de altura para estructuras finas.
- Tubo/objetivo 45× estándar para características ultra‑finas en semiconductores (sub‑2 µm).
- Iluminación LED: White LED para Bright Field y Green LED para barridos confocales de altura.
- Opciones de autofocus: TTL Laser AF y Image AF.
- Mejoras de usabilidad: acceso simplificado a la cubierta del cabezal y indicador LED de estado en el cabezal.
Modelos y áreas de aplicaciónLa familia NEXIV VMF-K cubre distintas carreras y necesidades de producción:
- NEXIV VMF-K3040 — recorridos XYZ 300 × 400 × 150 mm: aplicaciones de carrera media, inspección de probe cards.
- NEXIV VMF-K6555 — recorridos XYZ 650 × 550 × 150 mm: mayor capacidad de mesa para substratos, wafers grandes y probe cards de mayor tamaño.
Casos de uso representativos- Inspección de probe cards: captura 2D/altura simultánea en un único FOV, mayor rendimiento y mediciones de gran longitud.
- Inspección de wafers y WLP: objetivo 45× para metrología de características ultra‑finas; el sistema confocal gestiona capas reflectantes y transparentes.
- Producción de substratos y control de calidad: mediciones fiables en muestras finas/transparentes y mediciones coordenadas en largas dimensiones.
Notas sobre óptica y método de medidaEl sistema combina imagen Bright Field 2D y escaneo confocal de altura en un único flujo de medición. El escaneo confocal soporta una altura máxima de 1 mm. La óptica Bright Field dispone de un zoom motorizado de 5 pasos para cubrir una amplia gama de campos y aumentos. La trayectoria confocal proporciona alta resolución en altura y buena repetibilidad para inspecciones 3D exigentes.
Especificaciones técnicas (selección)- Denominación de la serie: NEXIV VMF-K Series
- Tipos de cabezal: Standard head (Type-S), High-magnification head (Type-H), 45× High-magnification head
- Aumentos ópticos (ejemplos): 1.5×, 3.0×, 7.5×, 15×, 30×, 45×
- Distancias de trabajo (ejemplos): 24 mm (1.5×/3.0×), 5 mm (7.5×/30×/45×), 20 mm (15×)
- Altura máxima de escaneo confocal: 1 mm
- Campo confocal (ejemplos): 7.80×5.82 mm → 0.26×0.19 mm (varía según cabezal/aumento)
- Repetibilidad de altura (2σ) ejemplos: 0.6 µm, 0.35 µm, 0.25 µm, 0.20 µm
- Resolución de altura: típ. 0.025 µm; hasta 0.01 µm en modos de alta resolución
- Fuentes de luz: Confocal = Green LED; Bright Field = White LED
- Autofocus: TTL Laser AF y Image AF
- Alimentación: AC 100–240 V ±10%, 50/60 Hz; consumo aprox. 3–5.5 A según configuración
- Modelos representativos & recorridos: VMF-K3040 = 300×400×150 mm; VMF-K6555 = 650×550×150 mm
- Carga garantizada (precisión): VMF-K3040 ≈ 20 kg; VMF-K6555 ≈ 30 kg
- Resolución mínima de lectura: 0.01 µm
- Huella de instalación recomendada (ej.): VMF-K3040 ≈ 3150×3000 mm; VMF-K6555 ≈ 3200×3300 mm