HIPIMS sputtering significa High Power Pulsed Magnetron Sputtering. Este avance relativamente reciente en la pulsación de pulsaciones de pulso usando pulsos de energía de muy alta potencia y corta duración para generar un plasma e ionizar un gran porcentaje de los átomos pulverizados.
Se ha demostrado que el control preciso de la intensidad del campo magnético en la superficie del objeto es crítico para el proceso HIPIMS, tanto para la reducción del arco como para la ionización óptima del material pulverizado.
Angstrom Science ha desarrollado soluciones para sus líneas de productos de magnetrón circular y lineal que permiten que el campo magnético varíe discretamente (mediante conjuntos de imanes intercambiables para cátodos de montaje interno) o de forma continua (mediante ajustes de altura del paquete de imanes en cátodos de montaje externo).
Los magnetrones HIPIMS se utilizan para el pretratamiento de una subrecta antes de la deposición del recubrimiento y las deposiciones en película delgada con alta densidad de microestructura.
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