Magnetrón pulsado HiPIMS

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La pulverización catódica por magnetrón de impulsos de alta potencia (HiPIMS) es un avance relativamente reciente en la tecnología de pulverización catódica pulsada que utiliza impulsos de muy alta energía y corta duración para generar una descarga de plasma que ioniza un gran porcentaje de los átomos pulverizados. A continuación, el flujo ionizado puede guiarse para lograr un mayor control de las propiedades del recubrimiento. En el HiPIMS, se aplica al blanco de pulverización un voltaje de pico elevado y una alta densidad de corriente en pulsos de duración relativamente corta, con frecuencias igualmente bajas y largos intervalos de tiempo entre ciclos. La duración de los pulsos suele estar comprendida entre 50 y 200 microsegundos, con frecuencias en el rango de los 500 hercios, mientras que el tiempo entre ciclos puede ser de tan solo varias centésimas de segundo. Esto permite un ciclo de trabajo bajo, del orden del 10 %, lo que minimiza el calentamiento al tiempo que mantiene la estabilidad del proceso. El uso de la tecnología HiPIMS para modificar la morfología y la estructura de las películas resultantes ofrece varias ventajas. Propiedades como la densidad, la dureza, la topografía superficial, el índice de refracción y la adhesión pueden modificarse y mejorarse mediante el proceso HiPIMS. Angstrom Sciences ha desarrollado una serie de cátodos de pulverización catódica capaces de soportar estas densidades de potencia extremas para aplicaciones de producción continuas de larga duración. Junto con nuestro sistema patentado de refrigeración turbulenta del blanco, los cátodos de pulverización catódica por magnetrón de impulsos de alta potencia de Angstrom Sciences incorporan canales de refrigeración adicionales en el cuerpo del ánodo y en las bridas de montaje para mantener una refrigeración óptima durante el funcionamiento del proceso.