Máquina de control óptica Archer™

para oblea grabadapara la industria electrónicade defectos

El sistema de metrología de superposición Archer™ 800 proporciona información precisa del error de superposición en el producto para acelerar las rampas tecnológicas y estabilizar la producción de dispositivos lógicos y de memoria de vanguardia. La sintonización y optimización de la longitud de onda por capa con resolución nanométrica ofrece una caracterización precisa y robusta de los problemas de superposición asociados a las técnicas de estampado innovadoras, incluida la litografía EUV. Con niveles de productividad que satisfacen las cambiantes necesidades del mercado, el sistema de superposición basado en imágenes Archer 800 admite un mayor muestreo para correcciones de escáner de alto orden y un alto rendimiento para la supervisión en línea. Los algoritmos avanzados y el novedoso diseño del objetivo de superposición rAIM® producen una correlación mejorada entre los errores de superposición del objetivo y del dispositivo, lo que ayuda a los litógrafos a realizar un seguimiento preciso del rendimiento de la superposición del dispositivo. Aplicaciones Control de superposición en el producto, supervisión en línea, cualificación de escáneres, control de patrones, dimensión crítica de campo claro (CD) Sistema de metrología de superposición basado en imágenes con fuente de luz sintonizable para la medición precisa, robusta y de alta productividad de errores de superposición en nodos de diseño de memoria avanzada y lógica de ≤7nm. Sistema de metrología de superposición basado en imágenes para dispositivos lógicos y de memoria avanzados de ≤10nm. Módulos duales de medición de superposición basados en imágenes y dispersometría para una serie de capas de proceso en los nodos de diseño de 2Xnm/1Xnm.