Estación de sondeo automática DX1PS3

magnética

Resumen

La estación de sondas de campo magnético serie DX proporciona entornos de campo magnético controlado y temperatura variable para la caracterización eléctrica y magnética de semiconductores, dispositivos micro/nano, materiales magnéticos y dispositivos espintrónicos. Los sistemas admiten mediciones DC y RF de alta precisión y se ofrecen en configuraciones modulares adecuadas para laboratorios de investigación y entornos de producción.

Modelos disponibles y parámetros principales

• DX1PS1 — Estación unidimensional de campo en‑plano
  • Campo en‑plano: máx. 0,5 T @ 3 cm de separación de polos; 1 T @ 1,5 cm.
  • Incluye fuente bipolar y software de control de campo magnético.
  • Opciones de sonda: base DC + 2 pares de sondas, o base RF + 1 par; base de sonda móvil en tres dimensiones.
  • Etapa de traslación 4D de alta precisión (X‑Y‑Z + rotación), microscopio estereoscópico o metalográfico 200× con cámara CCD.
• DX1PS2 — Estación unidimensional de campo vertical
  • Campo vertical: hasta 1,2 T.
  • Incluye fuente bipolar y software de control.
  • Opciones de sonda: base DC + 2 pares, o base RF + 1 par; base móvil en 3D.
  • Etapa de traslación 4D (X‑Y‑Z + rotación 90°), microscopio metalográfico 200× con cámara CCD.
• DX2PS1 — Estación bidimensional X‑Y
  • Campo vectorial 2D en plano X‑Y: máx. 0,4 T @ 2 cm; 0,6 T @ 1 cm; 0,8 T @ 0,6 cm.
  • Incluye fuente bipolar y software de control; velocidad de muestreo del campo hasta 5 Hz.
  • Opciones de sonda: base DC + 2 pares, o base RF + 1 par; base móvil en 3D.
  • Etapa de traslación 4D (X‑Y‑Z + rotación), microscopio metalográfico o estereoscópico 200× con cámara CCD.
• DX2PS2 — Estación bidimensional X‑Z
  • Campo vectorial 2D en plano X‑Z (en‑plano + vertical).
  • En‑plano: máx. 0,4 T @ 2 cm; 0,6 T @ 1 cm. Vertical: máx. 0,6 T.
  • Incluye fuente bipolar y software de control; velocidad de muestreo hasta 5 Hz.
  • Opciones de sonda: base DC + 2 pares, o base RF + 1 par; base móvil en 3D.
  • Etapa de traslación 4D (X‑Y‑Z + rotación 90°), microscopio metalográfico 200× con cámara CCD.
• DX3PS — Estación tridimensional
  • Campo vectorial 3D X‑Y‑Z: intensidad máxima en cualquier dirección 0,5 T.
  • Incluye fuente bipolar y software de control; velocidad de muestreo hasta 5 Hz.
  • Opciones de sonda: base DC + 2 pares, o base RF + 1 par; base móvil en 3D.
  • Etapa de traslación 3D de alta precisión (X‑Y‑Z), microscopio metalográfico 200× con cámara CCD.
• DX1PS3 — Estación automática en‑plano para nivel wafer DX1PS3
  • Estación automática a nivel wafer para ensayos eléctricos y magnéticos; proporciona un campo unidimensional en‑plano de ~330 mT y admite mediciones DC/RF de alta precisión.

Especificaciones técnicas

• Aplicaciones: industria de semiconductores, MEMS, superconductividad, electrónica, ferroeléctricos, física y ciencia de materiales.
• Fuente bipolar y software dedicado de control de campo magnético (control y supervisión en tiempo real).
• Configuraciones de sondas: base DC con dos pares de sondas o base RF con un par; base de sondas móvil 3D para posicionamiento preciso.
• Etapas de traslación: etapas multi‑eje de alta precisión (X‑Y‑Z con rotación o etapas 3D) para posicionamiento submilimétrico y alineación por rotación.
• Inspección óptica: microscopios estereoscópicos o metalográficos 200× con integración de cámara CCD para observación e imagen de muestras.
• Rendimiento de campo magnético: intensidades máximas dependientes del modelo (ver ítems por modelo). Las unidades a nivel wafer apuntan a uniformidad (±1% @ Ø1 mm) y precisión de monitorización mejor del 1% con resolución < 0,02 mT para modelos específicos.
• Escaneado de campo magnético: modelos seleccionados soportan escaneado rápido hasta 5 Hz para mediciones dinámicas.
• Modularidad y escalabilidad: sistemas diseñados para ampliaciones y personalización (diferentes tipos de imanes y opciones de accesorios disponibles).

Sondas, medición y control

• Software integrado para ajuste de campo, monitorización en tiempo real y registro de datos.
• Soporte para sondas DC y RF y compatibilidad con tarjetas de sondas y equipos de medida habituales en semiconductores.
• Posicionamiento y rotación de alta precisión para contacto reproducible y alineación en caracterizaciones eléctricas.

Aplicaciones e industrias

• Investigación universitaria y en institutos, I+D en semiconductores y pruebas de producción, espintrónica y caracterización de materiales magnéticos.
• Adecuado para desarrollo de dispositivos, pruebas a nivel wafer y mediciones dinámicas dependientes del campo.