Descripción generalLas placas retardadoras DUV compatibles con vacío se montan en una carcasa de aluminio no anodizado y cuentan con construcción sin adhesivos para minimizar la liberación de gases en entornos de vacío. Están optimizadas para una transmisión >99.8% en las longitudes de onda diseñadas de 257 nm o 266 nm. Opciones de retardancia disponibles: λ/2 (media onda) y λ/4 (cuarto de onda). Construidas como placas retardadoras de orden cero para ofrecer una mejor tolerancia de retardancia, mayor ancho de banda y menor sensibilidad a la temperatura. El eje rápido está marcado en el borde del soporte para una fácil identificación e integración en el sistema. Estas placas son adecuadas para aplicaciones en ciencias de la vida y litografía que requieren condiciones de vacío.
Características clave- Longitudes de onda para UV profundo: 257 nm y 266 nm
- Optimizada para una transmisión >99.8% en la longitud de onda diseñada
- Construcción sin adhesivos para bajo outgassing en aplicaciones compatibles con vacío
- Montura de aluminio no anodizado para evitar contaminación en vacío
- Retardancias disponibles: λ/2 (media onda) y λ/4 (cuarto de onda)
- Construcción de orden cero para mejor tolerancia de retardancia
- Mayor ancho de banda y menor sensibilidad a cambios de temperatura
- Eje rápido marcado en el borde del soporte para una alineación sencilla
- Aplicaciones objetivo: instrumentación de ciencias de la vida y litografía en entornos de vacío
Especificaciones técnicas- Longitudes de onda diseñadas: 257 nm o 266 nm
- Transmisión: >99.8% en la longitud de onda diseñada
- Opciones de retardancia: λ/2 (media onda), λ/4 (cuarto de onda)
- Montura: Aluminio no anodizado (construcción sin adhesivos)
- Construcción: Placa retardadora de orden cero
- Marcado: Eje rápido indicado en el borde del soporte
- Rendimiento: Mejor tolerancia de retardancia; mayor ancho de banda; menor sensibilidad térmica