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Sistema láser pulsado NL200
de nanosegundoQ switchde estado sólido

Sistema láser pulsado - NL200 - EKSPLA - de nanosegundo / Q switch / de estado sólido
Sistema láser pulsado - NL200 - EKSPLA - de nanosegundo / Q switch / de estado sólido
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Características

Modo de funcionamiento
pulsado, de nanosegundo, Q switch
Tecnología
de estado sólido
Espectro
de infrarrojos, visible, ultravioleta
Aplicaciones
de grabado, de marcado, para espectroscopia, para la fabricación de dispositivos, para la transformación de materiales, para línea de producción, para la investigación, LIDAR, de microscopía, de bombeo
Otras características
compacto, mini, refrigerado por aire, cerrado, DPSS
Potencia

600 W

Longitud de onda

213 nm, 266 nm, 355 nm, 532 nm, 1.064 nm

Descripción

La serie NL200 es un láser de nanosegundos DPSS conmutado por Q, compacto y refrigerado por aire, diseñado para alta energía de pulso a tasas de repetición en kHz. Su diseño bombeado por el extremo asegura compacidad e integración fácil en diversos equipos láser industriales y de I+D. Con una corta duración de pulso de nanosegundos, tasa de repetición variable y disparo TTL externo, la serie NL200 es una fuente excelente y rentable para aplicaciones que requieren mayor energía de pulso, como procesamiento de materiales, reparación de paneles de visualización LCD y OLED, ablación, marcado, grabado, limpieza láser y deposición láser. Este láser puede equiparse con módulos de generación armónica para longitudes de onda de 532 nm, 355 nm, 266 nm y 213 nm, lo que lo convierte en una herramienta versátil para espectroscopía, imagen fotoacústica y teledetección. El diseño mecánicamente estable y herméticamente sellado asegura una operación confiable y una larga vida útil de los componentes.

Características
  • Fiabilidad reconocida por los clientes
  • Dos años de garantía
  • Hasta 4 mJ de energía de pulso a 1064 nm
  • Tasa de repetición variable hasta 2500 Hz
  • Longitudes de onda de 532 nm, 355 nm, 266 nm, 213 nm como opciones estándar
  • Duración de pulso <10 ns a 1064 nm
  • Conmutación Q electro-óptica
  • Operación llave en mano
  • Cavidad sellada robusta
  • Tamaño compacto
  • Sencillo y robusto
  • Refrigerado por aire
  • Disparo TTL externo
  • Control remoto a través de teclado y/o cualquier controlador que funcione en cualquier sistema operativo utilizando comandos API REST

Aplicaciones
  • Procesamiento de materiales
  • Reparación de paneles de visualización LCD y OLED
  • Marcado
  • Micromecanizado
  • Grabado
  • Deposición láser
  • Limpieza láser
  • Ablación
  • Espectroscopía
  • Bombeo OPO
  • Teledetección

Beneficios
  • Ajuste continuo de la tasa de repetición manteniendo constante la energía de pulso, estabilidad superior de apuntamiento del haz y de energía para aplicaciones de micromecanizado, marcado, eliminación de películas delgadas
  • Perfil de haz suave cercano a Gaussiano con un valor bajo de M² < 1.3 y buena capacidad de enfoque, beneficioso para la reparación de pantallas LCD y OLED
  • Compacidad y ligereza para fácil transporte y ahorro de espacio
  • Selección rápida de longitud de onda para aplicaciones que requieren longitudes de onda alternas, como ablación de materiales y LIBS
  • Refrigeración por aire, tecnología de bombeo por el extremo confiable, diseño DPSS sin amplificador para fácil operación, alineación, instalación y bajo costo de propiedad
  • Variedad de interfaces de control (USB, RS232, LAN, WLAN) para fácil integración con equipos de laboratorio o OEM

Especificaciones
  • Energía de pulso (a 1064 nm): NL201: 0.9 mJ, NL202: 2.0 mJ, NL204: 4.0 mJ
  • Energía de pulso (a 532 nm): NL201: 0.3 mJ, NL202: 0.9 mJ, NL204: 2.0 mJ
  • Energía de pulso (a 355 nm): NL201: 0.2 mJ, NL202: 0.6 mJ, NL204: 1.3 mJ
  • Energía de pulso (a 266 nm): NL201: 0.08 mJ, NL202: 0.2 mJ, NL204: 0.6 mJ
  • Energía de pulso (a 213 nm): NL201: 0.04 mJ, NL202: 0.1 mJ, NL204: 0.2 mJ
  • Estabilidad de energía de pulso (Desviación estándar): a 1064 nm: <0.5%, a 532 nm: <2.5%, a 355 nm: <3.5%, a 266 nm: <4%, a 213 nm: <5%
  • Duración de pulso típica: 7–10 ns
  • Deriva de potencia: ±2%
  • Tasa de repetición de pulso: NL201: 0–2500 Hz, NL202/NL204: 0–1000 Hz
  • Perfil espacial del haz: cercano a Gaussiano en campos cercanos y lejanos
  • Elipticidad: 0.9–1.1 a 1064 nm
  • M²: <1.3
  • Divergencia del haz: <3 mrad
  • Polarización: lineal
  • Diámetro típico del haz: 0.7 mm
  • Estabilidad de apuntamiento del haz (RMS): ≤10 µrad
  • Jitter óptico (Desviación estándar): <0.5 ns
  • Tamaño de la cabeza del láser (A × L × A): 164 × 320 × 93 mm
  • Unidad de suministro de energía (A × L × A): 470 × 390 × 140 mm
  • Longitud del umbilical: 3 m
  • Refrigeración: refrigerado por aire
  • Temperatura ambiente: 18–30 °C
  • Humedad relativa: 20–80% (sin condensación)
  • Requisitos de energía: 100–240 V AC, monofásico, 50/60 Hz
  • Consumo de energía: <600 W
  • Limpieza de la sala: no peor que ISO Clase 9

Nota
  • El láser debe estar conectado a la electricidad principal en todo momento. Si se desconecta por más de 1 hora, se requieren unas horas de calentamiento antes de encenderlo.

Catálogos

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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.