Visión generalEn entornos de fabricación de semiconductores, los sistemas de suministro de productos químicos líquidos UHP (Ultra-High Purity) permiten la transferencia controlada y con mínima contaminación de ácidos, bases y solventes entre el almacenamiento a granel y el punto de uso. Estos sistemas reducen la manipulación manual y mantienen la integridad del proceso para un alto rendimiento.
Sistema de manejo de suministro químico a granelLa infraestructura de manejo a granel transporta grandes volúmenes desde tanques externos o almacenes de tambores. La construcción típica emplea acero inoxidable 316L electropulido o tubería PFA de alta calidad. Los métodos de transferencia incluyen transferencia por presión automatizada o bombas acopladas magnéticamente para flujo estable y sin pulsos, minimizando la generación de partículas y la cristalización.
Sistema de suministro UHP (última milla)El sistema UHP de última milla distribuye productos químicos al punto de uso incorporando filtración avanzada, sensores de nivel sin contacto y monitorización del consumo en tiempo real. Las medidas de seguridad y pureza incluyen contención secundaria, detección automática de fugas y purga con nitrógeno para evitar la oxidación y proteger a los operadores mientras se asegura el suministro de alta pureza a las herramientas de producción.
Datos técnicosModelo: JW-200L-CDM, JW-1000L-CDM
Tamaño de armario de gas especial: W2200*D1500*H2000 (doble tambor) / W2990*D2100*H2000 (doble tambor)
Alimentación del armario de control: 220VAC, 50Hz, 0.5–3KW, protección contra fugas
Purgado: PN2, SS316 1/2" SWG
Agua ultrapura: UPW, unión JIS 16A
Aire comprimido: CDA, SS316 1/2" SWG
Salida de residuos: Drenaje, PP DN20 Fusion Socket / Drenaje, PP DN25 Fusion Socket
Elementos estándar / opcionales- Panel de operación manual de emergencia (opcional)
- Filtro de alta eficiencia
- Sensor de puerta (opcional)
Aplicación- Semi conductor
- Fotovoltaica
- Energía solar
- Paneles de cristal líquido
- Fibra óptica
- Otros campos de producción de alta tecnología
Productos químicos especializados manejados- HF - Ácido fluorhídrico
- HCL - Ácido clorhídrico
- H2O2 - Peróxido de hidrógeno
- KOH - Hidróxido de potasio
- HNO3 - Ácido nítrico
- NH4OH - Hidróxido de amonio
- H2SO4 - Ácido sulfúrico
Función- Filtración de productos químicos líquidos
- Muesteo de productos químicos líquidos
- Circulación de productos químicos líquidos
- Distribución de productos químicos líquidos
Características / Especificaciones técnicas- Modelo: JW-200L-CDM; JW-1000L-CDM
- Tamaño armario de gas especial: W2200 × D1500 × H2000 (doble tambor) o W2990 × D2100 × H2000 (doble tambor)
- Alimentación armario de control: 220VAC, 50Hz, 0.5–3KW con protección contra fugas
- Purgado: PN2 con SS316 1/2" SWG
- Conexión de agua ultrapura: UPW, JIS 16A
- Aire comprimido: CDA con SS316 1/2" SWG
- Opciones de salida de residuos: PP DN20 Fusion Socket o PP DN25 Fusion Socket
- Equipo estándar: carcasa PP + ventanilla de observación PVC transparente, válvula interna PFA, purga con nitrógeno, muestreo, suministro de ácido totalmente automático, conmutación automática de bidones, configuración de bomba redundante (dos en uso + una de reserva), pantalla táctil de estado, corte automático, advertencias y autoverificación, soporte multilingüe, múltiples entradas de señal, lector de códigos, filtro de alta eficiencia, sensor de puerta opcional
- Aplicaciones: Semiconductores, Fotovoltaica, Energía solar, Paneles LCD, Fibra óptica y otros campos de alta tecnología
- Productos químicos manejados: HF, HCL, H2O2, KOH, HNO3, NH4OH, H2SO4
- Funciones principales: filtración, muestreo, circulación, distribución de productos químicos líquidos