- Productos
- Catálogos
- News & Trends
- Ferias
Sistema de fotolitografía
Añadir a mis favoritos
Añadir al comparador
Descripción
Descripción general
Sistema de exposición por proyección 1× equipado con óptica de proyección original de alta NA, compatible con resinas fotosensibles finas y gruesas. La configuración es adaptable y se pueden proponer sistemas de transferencia según la aplicación, incluidos wafer y FPC.
Aplicaciones
Especificaciones técnicas
Sistema de exposición por proyección 1× equipado con óptica de proyección original de alta NA, compatible con resinas fotosensibles finas y gruesas. La configuración es adaptable y se pueden proponer sistemas de transferencia según la aplicación, incluidos wafer y FPC.
Aplicaciones
- Fabricación de MEMS
- Patronado de componentes LED
- Procesamiento de componentes cristalinos y ópticos
- Exposición de FPC y sustratos flexibles
- Otros procesos de microfabricación
Especificaciones técnicas
- Tamaño máximo del sustrato: hasta 6 pulgadas
- Aumentos: 1×
- Óptica de proyección: alta apertura numérica (NA)
- Precisión de alineación: ± 1 μm
- Alineación por la cara posterior: disponible como opción
- Sistemas de transferencia adaptables: wafer y FPC (configurable)
Otros productos de SEIWAOPTICAL
equipment
Búsquedas asociadas
* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.