Alineador de máscara para obleas

totalmente automático

Visión general
Este sistema de exposición de obleas (Mask Aligner) incorpora un sistema óptico UV original optimizado para exposiciones de alta definición y un mecanismo de paralelismo preciso entre fotomáscara y oblea. El sistema totalmente automático admite tres modos de control de separación: Vacuum contact, Soft Contact y Proximity Gap.

Aplicaciones

• Dispositivos de potencia
• Procesado del reverso de CMOS
• Fabricación de MEMS
• Producción de LED
• Sustratos cerámicos

Especificaciones clave

• Tipo: Totalmente automático (para obleas de 2–12 pulgadas o forma cuadrada)
• Sistema óptico: Sistema UV original optimizado para exposición de alta definición
• Modos de control de separación: Vacuum contact; Soft Contact; Proximity Gap
• Tamaños de oblea disponibles: 12 pulgadas; 6–8 pulgadas; 4–6 pulgadas; 2–4 pulgadas; forma cuadrada
• Método de carga: Cassette to Cassette; Foup Load
• Direcciones de alineación: Cara superior; Cara posterior (opcional)
• Precisión de alineación: Cara superior ±0,8 μm o menos; Cara posterior ±1 μm o menos

Puntos operativos

• Alineación paralela de alta precisión entre máscara y oblea para fidelidad de patrón reproducible
• Control de separación flexible para procesos en contacto y en proximidad
• Compatibilidad con flujos estándar de cassette y FOUP para integración en sala limpia