Alineador de máscara para substrato de gran superficie
totalmente automáticopara la producción

Alineador de máscara para substrato de gran superficie - SEIWAOPTICAL - totalmente automático / para la producción
Alineador de máscara para substrato de gran superficie - SEIWAOPTICAL - totalmente automático / para la producción
Añadir a mis favoritos
Añadir al comparador

Características

Especificaciones
totalmente automático, para la producción, para substrato de gran superficie

Descripción

Visión general
Diseñado para la exposición de vidrio de alta definición, este sistema integra un sistema óptico UV optimizado para exposiciones de alto detalle y un mecanismo de paralelismo de alta precisión entre fotomáscara y sustrato. Funcionamiento totalmente automático con modos de exposición: contacto al vacío, contacto suave y brecha de proximidad. Configuraciones vertical y horizontal para diferentes tamaños de máscara: vertical para máscaras grandes (G5 y superiores), horizontal para G4.5 o menores.

Uso
Adecuado para el procesamiento de vidrio en líneas de producción FPD (flat panel display), TP (touch panel) y CF (cell fabrication).

Especificación
  • Tamaño de sustrato disponible: G4.5 - G8.5
  • Precisión de alineación: ±1 μm
  • Modos de exposición: contacto al vacío, contacto suave, brecha de proximidad


Características clave
  • Sistema óptico UV optimizado para exposición de alta definición
  • Mecanismo de paralelismo de alta precisión entre fotomáscara y sustrato
  • Funcionamiento totalmente automático con modos de exposición seleccionables
  • Configuraciones: vertical (recomendada para G5+) y horizontal (recomendada para G4.5 o menos)
  • Diseñado para integración en líneas industriales FPD/TP/CF
Búsquedas asociadas
* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.