Visión generalDiseñado para la exposición de vidrio de alta definición, este sistema integra un sistema óptico UV optimizado para exposiciones de alto detalle y un mecanismo de paralelismo de alta precisión entre fotomáscara y sustrato. Funcionamiento totalmente automático con modos de exposición: contacto al vacío, contacto suave y brecha de proximidad. Configuraciones vertical y horizontal para diferentes tamaños de máscara: vertical para máscaras grandes (G5 y superiores), horizontal para G4.5 o menores.
UsoAdecuado para el procesamiento de vidrio en líneas de producción FPD (flat panel display), TP (touch panel) y CF (cell fabrication).
Especificación- Tamaño de sustrato disponible: G4.5 - G8.5
- Precisión de alineación: ±1 μm
- Modos de exposición: contacto al vacío, contacto suave, brecha de proximidad
Características clave- Sistema óptico UV optimizado para exposición de alta definición
- Mecanismo de paralelismo de alta precisión entre fotomáscara y sustrato
- Funcionamiento totalmente automático con modos de exposición seleccionables
- Configuraciones: vertical (recomendada para G5+) y horizontal (recomendada para G4.5 o menos)
- Diseñado para integración en líneas industriales FPD/TP/CF