El nitruro de aluminio (AlN) es un material cerámico técnico avanzado que presenta una combinación muy interesante de conductividad térmica muy elevada (hasta 230 W/m.K) y excelentes propiedades de aislamiento eléctrico.
Esto hace que el sustrato cerámico de nitruro de aluminio (AlN) se utilice ampliamente en electrónica de potencia y microelectrónica. Por ejemplo, se utiliza como soporte de circuitos (sustrato) en semiconductores o como disipador de calor en la tecnología de iluminación LED o la electrónica de alta potencia.
Ventajas del sustrato cerámico de nitruro de aluminio (AlN)
-Alta conductividad térmica (170-230W/mK), hasta 9,5 veces superior a la del sustrato cerámico de óxido de aluminio.
-Coeficiente de expansión térmica similar al de los semiconductores de silicio (Si), GaN y GaAs. Esto ayuda a conseguir una alta fiabilidad del chip de silicio (Si) y de los ciclos de calentamiento térmico.
-Alto aislamiento eléctrico, y menor constante dieléctrica.
-Alta resistencia mecánica (450 MPa).
-Superior resistencia a la corrosión frente al metal fundido.
-Muy alta pureza, sin toxicidad.
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