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Generadores de plasma programables
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Hacerse expositor{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
generador de plasma industrialTruPlasma RF Air Sériés 1000
... Hüttinger y la salida CombineLine para procesos de
plasma estables.
Funciones principales
- Smart Auto Frequency Tuning (AFT): ajuste rápido y óptimo de frecuencia entre generador y matchbox.
- Gestión
TRUMPF lasers
... Resumen
La TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2.1) son
generadores de pulsos bipolares diseñados para procesos de recubrimiento asistido por
plasma, como PVD, PECVD y pulverización reactiva. Ofrecen formas de onda ...
TRUMPF lasers
... Resumen
Generador de
plasma microondas de estado sólido, diseñado para alcanzar elevadas densidades de
plasma y satisfacer procesos industriales exigentes. La serie TruPlasma MW utiliza tecnología ...
TRUMPF lasers
... Resumen Alimentación de plasma estable y reproducible para producción de alto rendimiento. Los generadores TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) integran electrónica de potencia moderna, control preciso de salida ...
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Aplicaciones
- Procesos de aplicación de capas y grabado: plasma etch, RIE (etching iónico
TRUMPF lasers
... Resumen
La TruPlasma DC Serie 3000 (G2) es un
generador CC compacto y refrigerado por agua, adecuado para procesos de pulverización catódica CC y como reemplazo de fuentes de alimentación pulsadas. La gestión progresiva del ...
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... Highpulse Series 4000 (G2) es un generador HiPIMS diseñado para reemplazar fuentes de pulverización CC en sistemas de magnetrón existentes sin cambios de hardware. Potencias de pico muy altas generan densidades de plasma ...
TRUMPF lasers
... A medida que la industria de semiconductores acelera hacia una nueva inflexión, el generador de RF eVerest® satisface la necesidad de un control de plasma transformador. Su pulsación multinivel configurable permite una ...
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