ResumenGarantía de resultados de proceso excelentes. La TruPlasma RF Serie 3000 destaca por un diseño robusto y una alta eficiencia. Es adecuada para procesos de plasma estables y reproducibles en la fabricación de pantallas planas, células solares y semiconductores. Tecnología de AF sin compromiso.
Características principales- Eficiencia energética elevada (grados de rendimiento de hasta el 80%) que permite reducir costes energéticos hasta en un 50%.
- Gestión de arco RF avanzada para un desarrollo seguro incluso en procesos exigentes y novedosos.
- Tecnología CombineLine: protección fiable contra potencias reflejadas en caso de maladaptación y estabilización de oscilaciones de plasma.
- Emisión de potencia en modo continuo o por impulsos para máxima flexibilidad de proceso.
- Diseño robusto que permite tiempos de funcionamiento prolongados en procesos críticos.
- Compatibilidad y armonización con el sistema RF TRUMPF (generador + matchbox + SystemPort).
Aplicaciones- Procesos de aplicación de capas y grabado: plasma etch, RIE (etching iónico reactivo), ALD, PECVD.
- Recubrimiento de pantallas planas y células solares.
- Recubrimiento y estructuración de piezas metálicas (p. ej. recubrimientos protectores contra desgaste, grabado por plasma, calcinación por plasma de resist).
Opciones y accesorios- Módulo de gestión de arco para detección de arco selectiva y protección del producto e instalación.
- TruPlasma Match (matchbox) para adaptación óptima de potencia y transferencia eficiente a la descarga de plasma.
- SystemPort: medición de señal RF en entrada/salida de la matchbox, circuito regulador cerrado y control integrado del sistema RF.
- Osciladores maestros (master oscillators) para estabilizar procesos síncronos críticos; disponibles modelos para 13,56 MHz y combinaciones de frecuencias.
- Conmutadores de AF (AF switches) para uso de un generador en múltiples estaciones de proceso; variantes con 2, 3 o 4 salidas y diferentes categorías de potencia.
- Cables coaxiales diseñados para la transmisión de potencia RF en sistemas de 50 ohmios.
- Software TruControl Power para puesta en marcha y supervisión cómoda y segura del generador y del sistema RF.
Caracteristicas / especificaciones técnicas- Denominación de la serie: TruPlasma RF Serie 3000.
- Grado de rendimiento: hasta el 80% (reduce costes energéticos hasta aprox. 50%).
- Protección y estabilidad: CombineLine para protección frente a potencia reflejada y estabilización de plasma.
- Modos de salida: potencia continua y potencia por impulsos (opcional).
- Impedancia de salida típica: 50 ohmios (salida real de 50 Ω con CombineLine).
- Frecuencia y sincronización: opciones de osciladores maestros, disponible para 13,56 MHz y combinaciones de frecuencias.
- Integración sistema RF: SystemPort y matchbox para monitorización y control integrados (medición en entrada/salida de matchbox, detección temprana de arco).
- Instalaciones en campo: más de 20.000 unidades instaladas a nivel mundial (referencia de uso y fiabilidad).
- Aplicaciones recomendadas: RIE, ALD, PECVD, sputtering por RF, procesos de grabado y recubrimiento avanzados.
- Accesorios disponibles: gestión de arco, matchbox TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13), osciladores maestros, conmutadores AF, cables coaxiales y software TruControl Power.