Generador de plasma alta frecuencia TruPlasma Highpulse Series 4000 (G2)

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Resumen
El TruPlasma Highpulse Series 4000 (G2) es un generador HiPIMS diseñado para reemplazar fuentes de pulverización CC en sistemas de magnetrón existentes sin cambios de hardware. Potencias de pico muy altas generan densidades de plasma extremas y flujos iónicos elevados para obtener recubrimientos PVD duros, resistentes a la corrosión y al desgaste.

Características clave

• Potencia de pico hasta 4 MW para elevada densidad de plasma e ionización.
• Adaptación directa a sistemas de cátodos y condiciones de proceso existentes para una integración sencilla.
• Funcionamiento en modo CC posible; no se requiere fuente CC externa.
• Unidad compacta mono‑bloque, refrigerada por agua, apta para instalación en salas limpias.
• Gestión de arco totalmente digital (p. ej. CompensateLine CLC) para baja energía de arco y reducción de defectos en la película.

Aplicaciones

• Recubrimientos de materiales duros para protección contra corrosión y desgaste en piezas sometidas a altas cargas.
• Semiconductores y fotovoltaica: energía de proceso ajustada, alta productividad y parámetros de recubrimiento estables.
• Recubrimiento de grandes superficies de vidrio para arquitectura e industria mediante procesos PVD de plasma.
• Grabado y relleno de ranuras en combinación con substratos polarizados para mejorar las propiedades de la capa.

Beneficios para el cliente y ventajas del proceso

• Alta estabilidad de proceso: duración y frecuencia de pulso ajustables y regulación de potencia para mantener parámetros de deposición constantes, incluso en procesos reactivos.
• Pulverización sin gotas y defectos mínimos en la película gracias al control digital de arco con muy baja energía de arco.
• Parámetros de pulso ajustables y control avanzado de potencia para aumentar las tasas de deposición y ayudar a reducir el coste total de propiedad.
• Escalable desde laboratorios de I&D hasta grandes plantas industriales por su alta capacidad de energía y tensión.

Opciones

• CompensateLine (CLC): gestión digital de arco para optimizar calidad de capa y tasas de deposición.
• Opciones de adaptación de proceso para ajustarse a distintos tipos de cátodo y aplicaciones específicas.

Software

• PVD Power: software multilingüe para operación, configuración y diagnóstico; incluye visualización en tiempo real de parámetros, alarmas, valores de consigna y registro de alta resolución (función osciloscopio) para optimización y análisis.

Notas
Diseño compacto mono‑bloque totalmente refrigerado por agua; configurable para requisitos de proceso específicos y apto para salas limpias.

Características / especificaciones técnicas

• Potencia de pico: hasta 4 MW
• Tensión máxima: hasta 2 kV
• Duración de pulso: hasta 5 ms
• Frecuencia de pulso: hasta 10 kHz
• Modos: HiPIMS y DC
• Refrigeración: totalmente por agua
• Tipo de unidad: unidad compacta mono‑bloque (no requiere fuente CC externa)
• Gestión de arco: totalmente digital (CompensateLine CLC disponible)
• Software: PVD Power