Espectrofotómetro UV-Vis AAS-7003

UV-Vis-NIRmonohazwolframio

Descripción breve
La serie AAS-7000 de espectrofotómetros de absorción atómica (AAS-7000/AAS-7001/AAS-7002/AAS-7003) está diseñada para el análisis de oligoelementos en minería, petroquímica, geología, medicina, medio ambiente, investigación, agricultura, alimentación y control de materiales. El equipo admite técnicas de llama, horno de grafito e hidruros y puede analizar más de 70 elementos.

Aplicación
Adecuado para análisis cuantitativos de trazas y ultratrazas en laboratorios y entornos de QA/QC: análisis de metales en menas y lingotes, corrientes petroquímicas, control ambiental, muestras clínicas, seguridad alimentaria, suelos agrícolas y ensayos de materiales.

Características

• Sistema óptico avanzado
  • Diseño óptico suspendido para estabilidad frente a vibraciones y cambios de temperatura (Patente: ZL200620023296.X).
  • Red de difracción 1800/mm para alta energía y resolución.
  • Trayecto óptico corto de un solo rayo para mejorar límites de detección de As y Se.
  • Lámpara de tungsteno con corrección de fondo por autoabsorción para calibraciones más precisas.
• Diseño integrado y compacto
  • Instalación integrada de atomizador de llama, horno de grafito y fuente de alimentación en el equipo para reducir huella (Patente: ZL200620023298.9).
  • Gestión de energía optimizada que prolonga la vida útil de las lámparas.
• Conmutación rápida automática
  • Banco de trabajo conmutabl e que permite cambiar rápida y automáticamente entre llama y horno de grafito (Patente: ZL200620023298.9).
• Seguridad y protección
  • Alarma de protección de corriente para lámpara de cátodo hueco.
  • Protección gas/baja tensión, alarma de fuga de gas, protección por sobrecalentamiento del horno de grafito y protección ante anomalías de la llama.
• Escalabilidad y accesorios
  • Soporta generador de hidruro HG-01 para análisis ultra-precisos de Pb, Se, Hg, Bi, Sb, Sn.
  • Autosampler para horno de grafito y preparación automática de estándares opcionales para análisis totalmente automático.
  • Autosampler de llama y sistema N2O/C2H2 opcionales para el análisis de >30 elementos de alta temperatura.
• Alta automatización
  • Posicionamiento automático de longitud de onda, conmutación de rendija, ajuste automático de corriente de lámpara y ganancia a nivel internacional.
  • Torreta motorizada de 6 lámparas para selección y posicionamiento rápidos.
  • Encendido automático, control de flujo de gas y alarma de fugas.

Resumen de la serie AAS-7000
Modelo | Configuración | Tipo
AAS-7003 | Manguera, llama, horno de grafito | Automático

Equipo suministrado

• Unidad principal: modelo opcional
• Ordenador, impresora, software dedicado e interfaz de control
• Suministro de aire: compresor; argón y acetileno de alta pureza (proporcionados por el usuario)
• Lámparas elementales: seleccionadas según la aplicación
• Generador de hidrudos (opcional)
• Autosampler para horno de grafito (opcional)
• Depósito de agua de refrigeración para horno de grafito (opcional)
• Repuestos y herramientas especiales

Sistema de horno de grafito superior

• Control de temperatura vertical avanzado; temperatura del horno de grafito hasta 3000 ℃ para elementos de alta temperatura.
• Alta estabilidad: diseño óptico que aporta alta potencia y relación señal/ruido; menor presión negativa frente a productos domésticos comparables.
• Mayor volumen máximo de muestra: horno diseñado para aceptar hasta 70 μL para múltiples inyecciones y muestras de baja concentración.
• Corrección de fondo robusta: D2 continuo y corrección por autoabsorción, capacidad de corrección hasta 1.5A y >50×.
• Calentamiento óptico rápido para atomización rápida y mayor sensibilidad.
• Calentamiento uniforme y de alta precisión que asegura condiciones isotérmicas.
• Sistema de cámara de atomización todo titanio para resistencia a la corrosión y altas temperaturas.
• Entrada de muestra orientada al usuario para reducir el error de muestreo y facilitar la inyección manual.
• Cono de grafito reemplazable para mantener la conductividad del electrodo y la eficiencia analítica (Patente No.: ZL2007 2 0104071).

Estación de procesamiento de datos altamente automatizada

• Interfaz basada en Windows con soporte multilingüe y gestión avanzada de datos, ajuste flexible de curvas y manejo tolerante a fallos de muestras.
• Impresión de informes flexible y exportación en múltiples formatos.
• Gestión de datos: historial, consulta, edición y descarga.
• QA/QC: verificaciones automáticas, re-medición, pruebas SD/RSD, pruebas de correlación y QC, deriva de línea base y gestión del límite de detección, dilución automática en línea.
• Control del instrumento: selección automática de lámparas, barrido de longitud de onda, conmutación de rendija, ajuste de corriente y ganancia.
• Monitorización de condiciones: estado en tiempo real de componentes, monitorización de seguridad de llama y horno.
• Registro de tiempo de encendido de lámparas con registro automático.

Especificaciones técnicas

• Rango de longitud de onda: 190 - 900 nm
• Monocromador: monocromador de rejilla C-T
• Repetibilidad de longitud de onda: ≤ 0.1 nm (AAS-7002, AAS-7003); ≤ 0.2 nm (AAS-7000, AAS-7001)
• Longitud de onda blaze: 250 nm
• Resolución: < 0.3 nm
• Ancho espectral: 0.1, 0.2, 0.4, 1.0, 2.0 nm (AAS-7002, AAS-7003)
• Precisión de longitud de onda: ± 0.2 nm
• Rugosidad de rejilla: 1800 / mm
• Estabilidad de línea base: ≤ ± 0.004 A / 30 min (dinámica); ≤ ± 0.002 A / 30 min (estática)
• Concentración característica Cu en llama: ≤ 0.02 μg/ml
• Precisión en llama (RSD): ≤ 1%
• Límite de detección en llama: ≤ 0.005 μg/ml
• Cabezal quemador de llama: 50 × 100 mm intercambiable todo titanio y cámara de pulverización todo titanio
• Horno de grafito masa característica Cd: 0.5 × 10^-12 g
• Rango de temperatura horno de grafito: ambiente a 3000 ℃
• Programa de horno de grafito: hasta 20 segmentos; escalón, rampa; admite tres métodos de calentamiento
• Métodos de calentamiento: calentamiento de máxima potencia y calentamiento rápido controlado por luz
• Límite de detección horno de grafito: 0.5 × 10^-12 g
• Precisión horno de grafito (RSD): ≤ 2%
• Tasa de subida horno de grafito: ≥ 2000 ℃/seg
• Corrección de fondo: D2 y autoabsorción (opcional); corrección hasta 1.5A y >50×
• Métodos de medida: absorción en llama, emisión en llama, horno de grafito, método de hidruro
• Modos de análisis: lineal, no lineal, adición estándar; almacenamiento e impresión automáticos de curva de calibración, espectro, condiciones, parámetros y resultados
• Alimentación horno de grafito: integrada en el equipo
• Tamaño: 880 mm (L) × 540 mm (W) × 450 mm (H)
• Peso: 125 kg
• Alimentación eléctrica: 220 V, 50 Hz, monofásica
• Potencia host: 200 W; potencia horno de grafito: 4 kW
• Características principales: base óptica suspendida anti-sismo/anti-deriva; sistema automático de protección de gas con enclavamientos y alarmas; torreta automática de 6 lámparas; opciones de ancho de banda espectral; función de emisión en llama para metales alcalinos; atomizador eficiente; diseño integrado; conmutación rápida de mesa entre llama y horno (~2 s) sin ajuste de la trayectoria óptica.