ResumenLa TruPlasma DC Serie 4000 (G2) es una fuente de alimentación DC pulsada desarrollada para la pulverización reactiva de materiales difíciles. Admite operación en modo pulsado y en modo Bias, ofreciendo un rendimiento de plasma estable para procesos PVD y PECVD críticos y minimizando las interrupciones por arcos y los daños al sustrato.
LemaProcesos pulsados para superficies brillantes
Características clave- Procesamiento digital de señales para un control de plasma estable y reducción de tiempos de inactividad por arcos.
- Gestión rápida de arcos con baja energía de arco para minimizar daños en el sustrato y defectos superficiales.
- Amplio rango de frecuencia de impulsos y tensión inversa/bias ajustable para una configuración de proceso flexible.
- Diseño compacto y robusto con refrigeración por agua integrada para ahorrar espacio y reducir mantenimiento.
- Funcionalidad dual: admite modos pulsado y Bias en una sola unidad.
Aplicaciones- Recubrimientos duros: plasma estable para alta dureza superficial y mejor resistencia térmica/química.
- Metalización (PVD): depósito de capas metálicas ultrafinas y homogéneas para propiedades ópticas y eléctricas.
- Fotovoltaica: adecuado para el depósito de TCO y capas conductoras con requerimientos de baja energía de arco.
- Vidrio arquitectónico: recubrimientos PVD en grandes áreas con necesidades elevadas de alimentación de proceso.
Beneficios para el cliente- Mejora de la calidad del recubrimiento y la productividad mediante la reducción de gotas, menos defectos superficiales y mayores tasas de deposición.
- Flexibilidad de proceso mediante parámetros de pulso ajustables y operación en Bias para diversas aplicaciones.
- Herramientas avanzadas de monitorización y diagnóstico para optimizar procesos y reducir tiempos de inactividad.
Opciones- Operación en paralelo y sincronización de múltiples generadores, incluyendo sincronización de detección de arcos y del modo de pulso para sistemas multi-blanco.
SoftwarePVD Power: software multilingüe e intuitivo para operación, configuración y diagnóstico. Muestra valores de proceso, advertencias/alarms, permite la especificación de valores objetivo y registra/visualiza parámetros de funcionamiento con alta resolución temporal (función osciloscopio).
Especificaciones técnicas- Tecnología: DC pulsado para pulverización reactiva; soporta modo Bias.
- Modos de operación: pulsado y Bias (ambos en una misma unidad).
- Gestión de arcos: digital, tratamiento rápido con baja energía de arco.
- Control de proceso: procesamiento digital de señales; amplio espectro de frecuencias de impulso; tensión inversa ajustable.
- Refrigeración: chiller de agua integrado para instalación compacta y menor mantenimiento.
- Escalabilidad: admite operación paralela y sincronización de varias unidades.
- Software: PVD Power para operación, configuración, diagnóstico y registro/visualización de datos (función osciloscopio).
- Aplicaciones típicas: recubrimientos duros PVD/PECVD, metalización (TCO), fabricación de células fotovoltaicas, recubrimiento de vidrio arquitectónico a gran escala.