Cerámica de anillo

de alúminade nitruro de borode protección

Alumina Ceramic Insert Ring Chamber es una variante especializada de componentes resistentes al plasma, que aprovecha las propiedades únicas de la alúmina (Al₂O₃) para funcionar en entornos de plasma extremos. Los entornos de cámara de anillo de inserción de cerámica de alúmina a través de alta resistencia al calor, aislamiento eléctrico, y la resistencia a la pulverización catódica, sirviendo como una barrera protectora y estabilizador. Protege los componentes críticos (p. ej., electrodos, sensores) del bombardeo iónico y la erosión química, evita la fuga/arqueo de corriente, garantiza una distribución uniforme del plasma (p. ej., en el grabado de semiconductores) y resiste la contaminación por gases reactivos (p. ej., Cl₂, F₂). A pesar de su fragilidad y limitada resistencia al choque térmico, el refuerzo o los revestimientos compuestos (por ejemplo, nitruro de boro) mejoran su uso en aplicaciones extremas como semiconductores y aeroespacial, equilibrando el coste y el rendimiento.