Placa de cerámica
de alúminade óxido de aluminiode protección

Placa de cerámica - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - de alúmina / de óxido de aluminio / de protección
Placa de cerámica - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - de alúmina / de óxido de aluminio / de protección
Placa de cerámica - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - de alúmina / de óxido de aluminio / de protección - imagen - 2
Placa de cerámica - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - de alúmina / de óxido de aluminio / de protección - imagen - 3
Placa de cerámica - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - de alúmina / de óxido de aluminio / de protección - imagen - 4
Añadir a mis favoritos
Añadir al comparador

Características

Forma
en placas
Composición
de alúmina, de óxido de aluminio
Otras características
de aislamiento, de alta temperatura, resistente al desgaste, de protección

Descripción

Descripción general del producto
Las bases y boquillas de cerámica de alúmina (Al2O3) se emplean en equipos de proceso de semiconductores, como sistemas de implantación y componentes de generadores de electrones. Disponibles en grados 95 %, 99 % y 99,7 % Al2O3, estos componentes aportan aislamiento eléctrico, mayor conductividad térmica y resistencia mecánica requerida en ambientes de alta temperatura y alta tensión.

Propiedades clave
  • Ingrediente químico principal: Al2O3 (95 % / 99 % / 99,7 %)
  • Densidad aparente: 3,6 / 3,89 / 3,96 g/cm3
  • Temperatura máxima de uso: 1450°C / 1600°C / 1650°C
  • Conductividad térmica (20°C): 16 / 30 / 30,4 W/m·K
  • Resistencia dieléctrica: 8,3 (210) / 8,7 (220) / 8,7 (220) ac-kV/mm (ac V/mil)
  • Resistividad volumétrica (100°C): >10^13 / >10^14 / >10^14 ohm·cm
  • Resistencia a la flexión (20°C): 358 (52) / 550 / 550 MPa
  • Resistencia a la compresión (20°C): 2068 (300) / 2600 (377) / 2600 (377) MPa
  • Tenacidad a la fractura K(Ic): 4–5 / 5,6 / 6 MPa·m1/2


Aplicaciones
Se utiliza como piezas de aislamiento, blindaje y desgaste en generadores de electrones, equipos de implantación y otras herramientas de fabricación de semiconductores. Adecuada para componentes expuestos a alta temperatura, alto voltaje o atmósferas de proceso corrosivas.

Especificaciones técnicas
  • Ingrediente químico principal: Al2O3 (95 % / 99 % / 99,7 %)
  • Densidad aparente (g/cm3): 3,6 / 3,89 / 3,96
  • Temperatura máxima de uso: 1450°C / 1600°C / 1650°C
  • Absorción de agua (%): 0 / 0 / 0
  • Dureza ROHS: ≥85 / ≥89 / ≥89
  • Resistencia a la flexión (20°C) MPa (psi x 10^3): 358 (52) / 550 / 550
  • Resistencia a la compresión (20°C) MPa (psi x 10^3): 2068 (300) / 2600 (377) / 2600 (377)
  • Tenacidad a la fractura K(Ic) MPa·m1/2: 4–5 / 5,6 / 6
  • Coeficiente de expansión térmica (25-1000°C) 1×10^-6/°C: 7,6 / 7,9 / 8,2
  • Conductividad térmica (20°C) W/m·K: 16 / 30 / 30,4
  • Resistencia al choque térmico (°C): 250 / 200 / 200
  • Constante dieléctrica (1MHz, 25°C): 9 / 9,7 / 9,7
  • Resistencia dieléctrica ac-kV/mm (ac V/mil): 8,3 (210) / 8,7 (220) / 8,7 (220)
  • Resistividad volumétrica (100°C) ohm·cm: >10^13 / >10^14 / >10^14

Catálogos

No hay ningún catálogo disponible para este producto.

Ver todos los catálogos de Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd

Otros productos de Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd

Alumina Ceramic

* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.