Cerámica de anillo

en discosde alúminade aislamiento

Los anillos de enfoque de cerámica de alúmina están diseñados para mejorar la uniformidad del grabado alrededor del borde o perímetro de la oblea. Cuando se utilizan con un mandril electrostático (e-chuck), la oblea descansa sobre el anillo de enfoque del borde, mantenida en su lugar por la carga electrostática. Los anillos de enfoque de cerámica de alúmina son componentes críticos de los equipos de grabado por plasma, principalmente en la cámara de grabado. Los anillos se colocan estratégicamente para optimizar la distribución del plasma y mantener la uniformidad durante el proceso de grabado. Los procesos de fabricación de semiconductores exigen el funcionamiento en entornos de sala limpia, especialmente para los componentes utilizados en condiciones de alta temperatura, vacío y gases corrosivos. Los materiales cerámicos mantienen una gran estabilidad en estos complejos entornos físicos y químicos. El anillo de enfoque cerámico es una pieza crítica para el proceso de grabado de semiconductores. Cuando se elige una aleación de aluminio como material de la cámara de mordentado, es fácil que se produzca contaminación por partículas metálicas. Por ello, en la fabricación de los Ceramic Focus Rings se utiliza cerámica de alúmina de gran pureza (más del 99,5%) como material de cámara para los equipos de grabado por plasma. Características de los Anillos Focales Cerámicos： -Resistencia al desgaste, -Resistencia a la corrosión, -Excelentes propiedades mecánicas, -Aislamiento eléctrico, -Cumplen las normas de calidad de los productos semiconductores.