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Sistema láser pulsado NanoFlux SLM
de nanosegundoQ switchde estado sólido

Sistema láser pulsado - NanoFlux SLM - EKSPLA - de nanosegundo / Q switch / de estado sólido
Sistema láser pulsado - NanoFlux SLM - EKSPLA - de nanosegundo / Q switch / de estado sólido
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Características

Modo de funcionamiento
pulsado, de nanosegundo, Q switch
Tecnología
de estado sólido
Espectro
de infrarrojos, visible, ultravioleta
Aplicaciones
para espectroscopia, para holografía, para la transformación de materiales, para la investigación, de instrumentación, de bombeo
Otras características
de alta energía, de modo longitudinal, monomodal, Nd:YAG, bombeado por diodos
Potencia

5.000 W, 6.000 W, 8.000 W

Longitud de onda

266 nm, 355 nm, 532 nm, 1.064 nm

Descripción

La serie NanoFlux SLM son láseres Nd:YAG de alta energía y modo único (SLM) con Q-Switch diseñados para aplicaciones exigentes que requieren alta energía de pulso y excelente estabilidad. Estos láseres de nanosegundos con Q-Switch electro-óptico entregan hasta 10 J por pulso y son adecuados para el bombeo de láseres OPO, OPCPA o de colorante, holografía, espectroscopía LIF, teledetección, pruebas ópticas y más.

Características
  • Energías de pulso de hasta 10 J
  • Duraciones de pulso de 2 a 25 ns
  • Tasa de repetición de pulso de 10 Hz
  • Oscilador maestro de modo longitudinal único (SLM) auto-sembrado y bombeado por diodo
  • Cavidad de oscilador maestro estable que produce salida en modo espacial TEM₀₀
  • Excelente estabilidad de energía de pulso
  • Amplificador de potencia bombeado por lámpara de flash rentable
  • Duración de pulso estándar de 2 ns (2–25 ns opcional)
  • Opciones de generador de armónicos estabilizado en temperatura
  • Control a través de teclado, interfaces USB y LAN con software de control de Windows suministrado (RS232 opcional)


Aplicaciones
  • Procesamiento de materiales
  • Bombeo de láseres OPO, OPCPA, Ti:Sapphire, de colorante
  • Holografía
  • Espectroscopía láser no lineal
  • Pruebas ópticas


Descripción
  • Diseño innovador de oscilador maestro auto-sembrado y bombeado por diodo que logra salida SLM sin diodos de semilla de ancho de línea estrecho externos ni electrónica de bloqueo de cavidad.
  • La cavidad de oscilador maestro estable asegura salida en modo espacial TEM₀₀, resultando en excelentes propiedades de haz después de la amplificación.
  • Modelos con ajuste gaussiano mejorado están disponibles para aplicaciones que requieren un perfil de haz suave y cercano al gaussiano.
  • Los amplificadores lineales proporcionan una solución rentable para sistemas de nanosegundos de alta energía, con modelado avanzado de haz para perfiles espaciales suaves y sin puntos calientes.
  • La baja despolarización de la luz permite una generación eficiente de hasta la 4ª armónica con generadores de armónicos integrados opcionales.
  • Generadores de armónicos de cristal no lineal ajustados en ángulo en calentadores estabilizados en temperatura se utilizan para la generación de la segunda, tercera y cuarta armónica, con alta pureza espectral y cambio de longitud de onda manual o motorizado opcional.
  • El bajo jitter óptico con respecto al disparador Q-switch permite una sincronización confiable con equipos externos.
  • El control del sistema está disponible a través de un panel de control, USB, LAN y RS232 opcional, con software compatible con Windows.


Opciones
  • – G: Proporciona un perfil de haz similar al gaussiano (reduce la energía de salida del fundamental en ~80%)
  • – AW: Opción de enfriamiento aire-agua (reemplaza o complementa la unidad de enfriamiento agua-agua; la disipación de calor equivale al consumo total de energía)
  • – N2…N25: Opción de duración de pulso más larga (rango de 2 a 25 ns)


Especificaciones
  • Modelos: NanoFlux N2k10-SLM, NanoFlux N5k10-SLM, NanoFlux N10k10-SLM
  • Energía de salida: a 1064 nm: 2000 mJ / 5000 mJ / 10000 mJ; a 532 nm: 1000 mJ / 2500 mJ / 5000 mJ; a 355 nm: 450 mJ / 1300 mJ / 2500 mJ; a 266 nm: 140 mJ / 750 mJ / 1500 mJ
  • Tasa de repetición de pulso: 10 Hz
  • Duración de pulso: 2 ± 0,5 ns (otras duraciones 2–25 ns opcional)
  • Estabilidad de energía de pulso: a 1064 nm: ≤ 0,8 %; a 532 nm: ≤ 1,5 %; a 355 nm: ≤ 3 %; a 266 nm: ≤ 4 %
  • Deriva de potencia a largo plazo: ± 2 %
  • Perfil espacial del haz: Super-Gaussiano
  • M²: 4,4 / 6,6 / 9,2 (dependiendo del modelo)
  • Diámetro del haz: ~12 mm / ~18 mm / ~25 mm
  • Estabilidad de puntería del haz: ≤ 25 µrad
  • Divergencia del haz: ≤ 0,5 mrad
  • Jitter óptico: ≤ 0,2 ns
  • Ancho de línea: ≤ 0,01 cm⁻¹ (SLM)
  • Polarización: lineal, >90 %
  • Tamaño de la cabeza del láser (A×L×H mm): 455 × 1220 × 270 / 600 × 1500 × 300 / 700 × 2000 × 300
  • Tamaño de la fuente de alimentación (A×L×H mm): 550 × 600 × 1030 (o 2 unidades para modelos más grandes)
  • Longitud del umbilical: 5 m
  • Requisitos de energía: 208, 380 o 400 V AC, trifásico, 50/60 Hz
  • Consumo de energía: ≤ 5 kVA / ≤ 6 kVA / ≤ 8 kVA
  • Suministro de agua: ≤ 5 l/min, 2 Bar, max 15 °C / ≤ 7 l/min / ≤ 10 l/min (dependiendo del modelo)
  • Temperatura ambiente de operación: 22 ± 2 °C
  • Temperatura ambiente de almacenamiento: 15–35 °C
  • Humedad relativa (sin condensación): ≤ 80 %
  • Limpieza de la sala: ISO Clase 7


Nota: El láser debe estar conectado a la electricidad principal en todo momento. Si se desconecta por más de 1 hora, se requiere un período de calentamiento de unas pocas horas antes de encenderlo.

Catálogos

* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.