Blanco de pulverización catódico de wolframio catódico de molibdeno
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Características
- Especificaciones
- catódico de wolframio, catódico de molibdeno
Descripción
Descripción
Las aleaciones Mo‑W ofrecen mayor estabilidad química frente al molibdeno puro durante el grabado húmedo con soluciones para ITO, aluminio o cobre. El contenido de tungsteno se define según la aplicación y puede llegar hasta el 50 % en peso. La fabricación por pulvimetalurgia asegura una distribución homogénea del tungsteno y una microestructura controlada.
Ventajas
Aplicaciones y capacidades de proceso
Diseñados para aplicaciones de recubrimiento PVD y compatibles con procesos que implican ITO, aluminio y cobre. El laboratorio de aplicaciones PVD realiza ensayos en condiciones prácticas para desarrollar y analizar capas. Los procesos de recubrimiento disponibles incluyen PVD, CVD, APS y VPS; productos típicos: placas base de semiconductores y ánodos X rotativos.
Fabricación y cadena de suministro
La fabricación pulvimetalúrgica (mezcla/aleación de polvos, prensado, sinterizado, laminado en caliente cuando procede) produce cátodos planos y rotatorios así como piezas semiterminadas sinterizadas y compactas. El sinterizado es el paso central para lograr alta densidad. Tras el mecanizado, los cátodos se finalizan en talleres de bonding y se entregan listos para la instalación. La cadena de valor del tungsteno y el molibdeno está integrada en la red de suministro del grupo.
Características técnicas / especificaciones
Las aleaciones Mo‑W ofrecen mayor estabilidad química frente al molibdeno puro durante el grabado húmedo con soluciones para ITO, aluminio o cobre. El contenido de tungsteno se define según la aplicación y puede llegar hasta el 50 % en peso. La fabricación por pulvimetalurgia asegura una distribución homogénea del tungsteno y una microestructura controlada.
Ventajas
- Alta pureza > 99,97 %
- Densidad máxima > 99,95 %
- Microestructura y composición química homogéneas
Aplicaciones y capacidades de proceso
Diseñados para aplicaciones de recubrimiento PVD y compatibles con procesos que implican ITO, aluminio y cobre. El laboratorio de aplicaciones PVD realiza ensayos en condiciones prácticas para desarrollar y analizar capas. Los procesos de recubrimiento disponibles incluyen PVD, CVD, APS y VPS; productos típicos: placas base de semiconductores y ánodos X rotativos.
Fabricación y cadena de suministro
La fabricación pulvimetalúrgica (mezcla/aleación de polvos, prensado, sinterizado, laminado en caliente cuando procede) produce cátodos planos y rotatorios así como piezas semiterminadas sinterizadas y compactas. El sinterizado es el paso central para lograr alta densidad. Tras el mecanizado, los cátodos se finalizan en talleres de bonding y se entregan listos para la instalación. La cadena de valor del tungsteno y el molibdeno está integrada en la red de suministro del grupo.
Características técnicas / especificaciones
- Estabilidad química superior al molibdeno puro en ambientes de grabado húmedo
- Contenido de tungsteno: hasta el 50 % en peso (definido por aplicación)
- Alta pureza: > 99,97 %
- Densidad máxima: > 99,95 %
- La fabricación pulvimetalúrgica garantiza una distribución homogénea del W
- Disponibles en cátodos planos y en configuraciones rotativas
- Pasos clave de producción: mezcla/aleación de polvos, prensado, sinterizado, (laminado en caliente), mecanizado, bonding/ensamblaje
- Laboratorio de aplicaciones PVD interno para desarrollo de recubrimientos y análisis de capas
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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.