El H3-EB10C es un sistema de colocación superficial eutéctico completamente automatizado para encapsulados avanzados, que admite soldadura eutéctica y dispensado de adhesivo plateado (epoxi). Diseñado para entornos de producción y I+D, incorpora manejo multichip, cambio automático de herramientas y posicionamiento de precisión.
Aspectos destacados- Flujo de trabajo optimizado para alto rendimiento
- Capacidad multichip con cambio automático de herramientas (hasta 12 herramientas)
- Visión de doble campo y control de temperatura por etapas para alineación y soldadura precisas
Áreas de aplicación- Fotónica
- Dispositivos de potencia
- Componentes microondas RF
- Electrónica para vehículos de nueva energía
Características técnicas- Soldadura eutéctica con raspado y control de temperatura multi-etapas
- Bomba de dispensado de epoxi para colocación de adhesivo plateado y dispensado multichip
- Reemplazo automático de herramientas de recogida; compatibilidad con hasta 12 herramientas diferentes con movimiento fijo y conmutación flexible
- Capacidad de montaje con referencia frontal/trasera
- Proceso de colocación: eutéctico (dispensing, multi-chip)
- Sistema de visión/detección de doble campo para inspección de alta precisión
- Compatibilidad de alimentación: 2″ GEL-PAK, 6″ wafer ring
Especificaciones técnicas- Modelo: H3-EB10C
- Método de montaje: montaje con referencia frontal/trasera
- Proceso de montaje: colocación eutéctica (dispensing, multi-chip)
- Escenarios de aplicación: COC; COS (adecuado para producción masiva COC y pruebas de I+D)
- Precisión de colocación: ±3 μm (lámina estándar); hasta ±7 μm según la aplicación
- Precisión de unión: ±5 μm @ 3σ precisión de colocación; ±0.036° @ 3σ precisión de rotación
- Eficiencia del equipo: aprox. 10–20 s/ud (dependiente de la aplicación)
- Capacidad multichip: hasta 12 herramientas de recogida diferentes con cambio automático
- Visión/detección: visión de doble campo de alta precisión
- Compatibilidad de alimentación: 2″ GEL-PAK, 6″ wafer ring