El DXP-300 es un sistema PVD de recubrimiento por láser a escala de laboratorio, diseñado para preparar películas delgadas superconductoras, películas semiconductoras, películas ferroeléctricas y otras películas funcionales.
Adecuado para investigación de materiales en película delgada y preparación en pequeñas series en universidades e institutos de investigación.
Composición
Cámara de vacío para sputtering
Plataforma de objetivos rotativa
Placa calefactora de sustrato antioxidante
Sistema de circuito de aire de trabajo y purga
Máquina de instalación
Sistema de medición de vacío
Sistema de control eléctrico
Especificaciones técnicas
Modelo: DXP-300
Cámara principal: esfera, Ø300 mm
Sistema de vacío: bomba mecánica + bomba molecular + válvula deslizante
Presión final: ≤6.67*10-5 Pa (tras horneado y desgasificado)
Recuperación del vacío: alcanza 5*10-3 Pa en 20 min (procedimiento especial: exposición breve al aire, inflar con cloro seco, luego iniciar el vaciado)
Plataforma de objetivos rotativa: tamaño de objetivo Ø30 mm; hasta 4 objetivos; cada objetivo puede girar; admite cambio de revolución; velocidad 5–60 rpm
Placa calefactora de sustrato — tamaño de muestra: 1 inch
Placa calefactora de sustrato — movimiento: rotación continua del sustrato; velocidad 5–60 rpm
Temperatura máxima del sustrato: 800℃ ±1℃
Sistema de circuito de aire: controlador de flujo másico de un canal
Escaneo del haz láser: mesa de escaneo mecánico 2D
Sistema de control por ordenador: controla la revolución de la placa de objetivos, la rotación de objetivos, la rotación y temperatura de la muestra, el escaneo láser y funciones relacionadas
Superficie ocupada — Unidad principal: 850 × 850 mm²
Superficie ocupada — Armario de control eléctrico: 700 × 700 mm² (1 set)
Aplicaciones
Investigación de materiales en película delgada: superconductores, semiconductores, ferroeléctricos y películas funcionales
Preparación de pequeñas series de muestras para I+D y experimentos académicos
Desarrollo de procesos y optimización de parámetros a escala de laboratorio
Opciones y configuración
Disposición y materiales de objetivos personalizados
Portamuestras y fijaciones para varios tamaños de sustrato
Accesorios de vacío y filtrado, canales de masa adicionales bajo pedido
Catálogos
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