Máquina de deposición por pulverización catódica con magnetrón DXJ-1000

de metalización

El DXJ-1000 es un sistema de pulverización por magnetrón de cuatro cámaras cuadradas diseñado para el depósito de películas metálicas (Al, Ag, Ni, Cu, Ti, Pd y otros) sobre sustratos de silicio cristalino. Soporta pulverización reactiva y procesos completos de revestimiento por magnetrón en condiciones de alto y bajo vacío, siendo apto para la producción continua de películas para células fotovoltaicas de silicio cristalino de gran tamaño y diversas especificaciones.

Composición

• El sistema se compone principalmente de: cámara de inyección de muestras, cámara de pulverización, cámara de fabricación de muestras, mecanismo de transporte de sustratos, sistema de bombeo y medición de vacío, circuito de gas, sistema de control electrónico, limpieza con cañón de iones y control automático.

Índice técnico

• Modelo: DXJ-1000
• Cámara principal de pulverización: cuadrada, 1000×700×350 mm
• Cámara de inyección de muestras: cuadrada, 700×700×350 mm
• Configuración del sistema de vacío: bomba mecánica + bomba molecular + válvula deslizante
• Presión final:
  • Cámara principal: ≤8×10⁻5 Pa (después de horneado y desgasificado)
  • Cámara de inyección de muestras: ≤6,6×10⁻4 Pa (después de horneado y desgasificado)
• Tiempos de recuperación de vacío:
  • Cámara principal: alcanzar 6,6×10⁻4 Pa en ~40 min (tras exposición corta al aire y purga seca)
  • Cámara de inyección: alcanzar 5×10⁻3 Pa en ~20 min (tras exposición corta al aire y purga seca)
• Componentes de dianas para sputtering magnético permanente: dos dianas cuadradas (~450×75 mm); distancia diana‑muestra ≈80 mm
• Placa calefactora para sustrato:
  • Tamaños de sustrato admitidos: 125×125 mm o 156×156 mm (4 piezas por carga)
  • Temperatura de calentamiento: ambiente hasta ~400°C (±2°C), controlable
• Otras configuraciones: equipada con limpieza por cañón de iones y control automático
• Sistema de gas: controladores de caudal másico, 3 canales
• Superficie ocupada:
  • Unidad principal: 2655×930 mm²
  • Armarios eléctricos: 2 × 700×700 mm²

Especificaciones técnicas

• Modelo: DXJ-1000
• Cámara principal: 1000×700×350 mm
• Cámara de inyección de muestras: 700×700×350 mm
• Vacío: bomba mecánica + bomba molecular + válvula deslizante; presión final ≤8×10⁻5 Pa (cámara principal)
• Tiempos de recuperación: cámara principal a 6,6×10⁻4 Pa en ~40 min; cámara de muestras a 5×10⁻3 Pa en ~20 min
• Dianas magnétron: dos dianas cuadradas (~450×75 mm), distancia diana‑muestra ≈80 mm
• Placas de sustrato: admite 125×125 mm o 156×156 mm (4 piezas); calentamiento hasta ~400°C (±2°C), regulable
• Adicional: limpieza por cañón de iones, control automático; controladores de caudal másico 3 canales
• Huella: unidad principal 2655×930 mm²; armarios eléctricos: dos conjuntos 700×700 mm²