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- Xiamen Dexing Magnet Tech. Co., Ltd.
Máquina de recubrimiento al vacío para cañón de electrones DXD-500para lotes pequeñospara la electrónica
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Características
- Especificaciones
- para cañón de electrones, para lotes pequeños, para la electrónica
Descripción
Descripción general
Composición
Índice técnico
Especificaciones técnicas
- El sistema de evaporación por haz electrónico DXD-500 está diseñado para la preparación de películas electroconductoras, películas semiconductoras, películas ferroeléctricas y películas delgadas ópticas. Destinado a investigación científica y producción en pequeños lotes en universidades e institutos de investigación.
Composición
- El sistema consta de la cámara de evaporación al vacío, cañón electrónico en E, electrodo de calentamiento para evaporación, placa giratoria calefactada para sustrato, circuito de gas de trabajo, sistema de bombeo, medición de vacío y sistema de control electrónico, equipos de instalación y accesorios relacionados.
Índice técnico
- Modelo: DXD-500
- Estructura: cámara en caja en forma de U con puerta frontal; sistema de bombas en la parte posterior.
- Tamaño interno de la cámara al vacío: 500 × 500 × 600 mm3
- Configuración del sistema de vacío: bomba molecular compuesta, bomba mecánica, válvula corredera
- Presión máxima alcanzable: ≤ 6,67×10^-5 Pa (tras horneado y desgasificación)
- Tiempo de recuperación del vacío: alcanza 6,67×10^-4 Pa en 45 min (tras corta exposición al aire e inyección de cloro seco antes del vaciado)
- Fuente de evaporación por haz electrónico: cañón electrónico en E — voltaje del polo positivo: 6 kV, 8 kV
- Cantidad de fuentes de evaporación: 2 fuentes de haz electrónico
- Crucero: crisol refrigerado por agua, diseño de cuatro agujeros; capacidad de cada uno: 11 ml
- Potencia del cañón electrónico: 0–6 kW ajustable
- Fuente de evaporación resistiva opcional: opciones de voltaje 5 V, 10 V; corriente 300 A; potencia máxima de salida 3 kW; cantidad: 1 juego (configurable)
- Electrodo refrigerado por agua: 3 piezas (pueden disponerse en 2 barcas de evaporación)
- Manejo de sustratos: admite sustratos de hasta 4 pulgadas; temperatura máxima del sustrato: 800 °C ± 1 °C; rotación continua: 5–60 rpm; distancia ajustable entre sustrato y fuente: 300–350 mm; incluye deflector manual de muestras (1 juego)
- Sistema de circuito de aire/gas: controlador de flujo másico — 1 canal
- Controlador de espesor por cristal de cuarzo: rango de visualización de espesor: 0–99.999 Å (según suministrado)
- Superficie ocupada / huella del equipo principal: 900 × 800 mm2
- Huella del armario de control eléctrico: 800 × 800 mm2 (2 unidades)
Especificaciones técnicas
- Modelo: DXD-500
- Tamaño interno de la cámara: 500 × 500 × 600 mm3
- Vacío máximo: ≤ 6,67×10^-5 Pa (tras horneado y desgasificación)
- Fuentes de evaporación: 2 cañones electrónicos en E (voltaje polo positivo 6 kV o 8 kV); fuente resistiva opcional (5/10 V, hasta 3 kW)
- Rango de potencia de evaporación (cañón E): 0–6 kW (ajustable)
- Soporte de sustrato: hasta 4 pulgadas, rotación continua 5–60 rpm, temp. máx. sustrato 800 °C ± 1 °C
- Distancia sustrato-fuente: ajustable 300–350 mm
- Bombeo: bomba molecular compuesta + bomba mecánica con válvula corredera
- Control/monitorización: medición de vacío y sistema de control electrónico; monitor de espesor por cristal de cuarzo
- Huella: equipo principal 900 × 800 mm2; armarios de control eléctrico 2 × (800 × 800 mm2)
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