Fotodiodo sensible a las longitudes de onda C30737PH-500-80N
LIDARavalanchade infrarrojos

Fotodiodo sensible a las longitudes de onda - C30737PH-500-80N - Excelitas Technologies - PCO - LIDAR / avalancha / de infrarrojos
Fotodiodo sensible a las longitudes de onda - C30737PH-500-80N - Excelitas Technologies - PCO - LIDAR / avalancha / de infrarrojos
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Características

Especificaciones
sensible a las longitudes de onda, LIDAR, avalancha, de infrarrojos, de silicio

Descripción

Descripción del producto:
El C30737PH-500-80N es un fotodiodo avalanche de silicio (APD) con diámetro activo de 500 µm y sensibilidad mejorada en 800 nm, en encapsulado Plastic T 1¾ para montaje axial. Diseñado para respuesta rápida y detección de bajo ruido en conjuntos compactos y económicos.

Características principales:
  • Responsividad optimizada entre 500–1000 nm con pico en 800 nm
  • Bajo ruido y tiempos de subida rápidos, respuesta en frecuencia superior a 1,3 GHz
  • Diámetro activo de 500 µm para una eficiente captura de luz
  • Encapsulado Plastic T 1¾ para montaje pasante (opción PH)

Aplicaciones:
  • Sistemas LiDAR
  • Telemetría láser y medición de distancia
  • Instrumentos de seguridad y escaneo
  • Montajes de detección fotónica con restricción de coste que requieren detectores rápidos y sensibles

Especificaciones técnicas:
  • Diámetro activo: 500 µm
  • Longitud de onda de máxima sensibilidad: 800 nm
  • Tensión de ruptura (Vbd): 120–210 V (binning disponible)
  • Coeficiente de temperatura de la tensión de polarización para ganancia constante: 0,5 V/°C
  • Ganancia: 100 @ 800 nm
  • Responsividad: 50 A/W a 800 nm
  • Corriente oscura (Id): <1 nA (típ. 0,1 nA)
  • Corriente de ruido: 0,1 pA/√Hz
  • Capacitancia: 2 pF
  • Tiempo de subida/bajada: 0,3 ns (Rload = 50 Ω)
  • Frecuencia de corte: 1,3 GHz
  • Temperatura de almacenamiento: -50 °C a +100 °C
  • Temperatura de funcionamiento: -40 °C a +85 °C
  • Encapsulado: Plastic T 1¾ para montaje pasante

Catálogos

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Ferias

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electronica Munich 2026
electronica Munich 2026

10-13 nov. 2026 Munich (Alemania) Hall B4 - Stand 302

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